Межслоевое расстояние

Cтраница 1

Межслоевое расстояние не претерпевает значительных изменений при взаимодействии с газообразными окислителями. Незначительное уменьшение межслоевого расстояния у карбонизован-ных продуктов ископаемых углей в начале процесса окисления происходит, вероятно, вследствие удаления неупорядоченного углерода. Средние размеры углеродных слоев ( Ьа) увеличиваются у карбонизованных продуктов ископаемых углей и не изменяются у сахарного кокса. [1]

Межслоевое расстояние Й002 3 358 А характерно для предельно графитированного искусственного графита. [2]

Структура гексагонального ( а и ромбоэдрического ( б графита. [3]

Межслоевое расстояние в идеальном графите равно 3 354 А. Элементарной ячейкой гексагональной структуры графита является прямая призма, в основании которой лежит правильный ромб. [4]

С межслоевое расстояние в его кристаллитах уменьшается с 4 018 до 3.448 А, размер Lc увеличивается с 8 9 до 19.4 AD, содержание углерода возрастает до 99.39 %, водорода и кислорода уменьшается до 0 01 и 0 65 % соответственно. Склонность к графитации не проявляется. [5]

Структура фторида гидразиния ( по Кронбергу и Харкеру. а - проекция слоя структуры. Нижние атомы N ( заштрихованы в каждом ионе N2H62 немного смещены. Светлые кружки ( сплошные и штриховые - ионы F - соответственно выше и ниже плоскости рисунка. Линии изображают связи N - Н - F. б-разрез, показывающий упаковку слоев. Штриховая линия соответствует плоскости а. [6]

Это межслоевое расстояние для F-N составляет 2 80 А, а для F-F 3 38 А. Поэтому межслоевое взаимодействие ионов F и атомов N ( и / или Н) соседнего слоя имеет слабо выраженный ионный характер. Слабость этих связей объясняет очень хорошую спайность параллельно слоям. [7]

Температурные зависимости степени кристалличности чистого ПТФЭ и полимерной матрицы композиционных материалов / - ПТФЭ. 2 - криолон-3. 3 - КВН-3. [8]

Величина межслоевого расстояния практически не зависит от температуры до достижения температуры плавления кристаллической фазы. Однако влияние наполнителей вызывает изменение межслоевого расстояния, при этом природа и форма частиц наполнителя оказывают различное влияние на формирование надмолекулярной структуры. Поэтому матрица криолона-3, содержащего волокнистый наполнитель, имеет межслоевое расстояние большее, чем у чистого ПТФЭ, в то время как структура матрицы материала КВН-3, содержащего дисперсные наполнители, характеризуется межслоевыми расстояниями меньшими, чем у чистого ПТФЭ. [9]

Характеристика углей для получения кокса. [10]

С увеличением межслоевого расстояния: /, РС и УЭС возрастают, а структурная прочность ( ГУ снижается. [11]

Структурные характеристики углерода, межслоевое расстояние doMi средние размеры кристаллитов ( Lc) по оси С, линейные размеры углеродных слоев La определялись рентгенографическим методом. [12]

Установлены две области изменений межслоевого расстояния d002 в зависимости от температуры: до 3 43 А - стадия карбонизации, от 3 43 до 3 358А - стадия кристаллизации. [13]

К), или межслоевых расстояний, входящих в Pn ( h, k) для отдельных слоев или для любого числа слоев. Таким образом, влияние различных нарушений структуры кристалла могут быть учтены без существенного изменения программы вычислений. [14]

При этом наблюдается уменьшение межслоевого расстояния d002 от огтах3 430 А в начальной стадии процесса до d n n 3 358 А для предельно графитированного углерода. [15]

Страницы: 1 2 3 4 5