Cтраница 1
Оптимальное межэлектродное расстояние при хромировании на указанных подвесках составляет 15 - 20 мм. [2]
Осциллограммы импульсов разрядного тока при различных межэлектродных промежутках. [3] |
Оптимальное межэлектродное расстояние, как правило, определяется экспериментально изучением осциллограмм тока в разрядном контуре или величин давления в рабочей камере. [4]
Поддержание оптимального межэлектродного расстояния электролизерах с большим числом анодов представляет технические трудности. При коротком замыкании на одном из анодов электролизера общее напряжение на электролизере меняется на сравнительно небольшую величину ( до 100 - 300 мВ), так как при большом количестве электродов многократное увеличение силы тока на одном аноде приводит к сравнительно небольшому снижению плотности тока на остальных анодах. Нагрузка на отдельные аноды в зависимости от межэлектродного расстояния может изменяться в широких пределах. [5]
Экспериментально найдено, что оптимальное межэлектродное расстояние 3 - 5 мм. [6]
В работе ( 108 ] выбор оптимального межэлектродного расстояния в рабочей камере осуществлялся экспериментально путем изучения осциллограмм тока. Ранее приведенные критерии оптимальности межэлектродного расстояния: электрогидравлической установки не совсем точны в случае тампонажных растворов, так как к последним предъявляется сложный комплекс требований, основанных на геологических и технических условиях цементируемых скважин. При этом качество рас-тпора оценивается по целому ряду показателей, один из которых надо улучшить, а другие, ухудшить. [7]
Описанные закономерности обусловливают требования к геометрии камеры детектора, в частности к оптимальному межэлектродному расстоянию. Увеличение расстояния между электродами в пределах среднего значения пробега р-частицы повышает чувствительность детектирования, но уменьшает его линейный диапазон. Это необходимо учитывать при использовании источников относительно мягкого р-излучения, например тритие-вых. [8]
Интенсификация процесса очистки отработанных масел от механических примесей и воды достигается, кроме того, возможностью регулирования частоты высокого напряжения, оптимальным межэлектродным расстоянием ( 5 - 7 мм), а также регулированием уровня входного отверстия сливного патрубка. Не исключается также и такое предположение, что под действием разряда тока высокого напряжения и частоты происходят процессы электроионизации, приводящие к некоторой стабилизации вязкостных характеристик, а также к уменьшению количества непредельных соединений. [9]
Интенсификация процесса очистки отработанных масел от механических примесей и воды достигается, кроме того, возможностью подачи регулируемой частоты высокого напряжения, оптимальным межэлектродным расстоянием ( 5 - 7 мм), а также регулированием уровня входного отверстия сливного патрубка. [10]
Основные тенденции промышленного использования МИА в диафрагменном метода направлены на создание новых конструкций электролизеров для работы с МИА в противовес использованию их в существующем оборудовании, в ртутном - на применение автоматических регулирующих систем, обеспечивающих поддержание оптимального межэлектродного расстояния и предотвращающих короткое замыкание. Основными недостатками МИА, затрудняющими их внедрение, являются их чувствительность к короткому заыыкаюш с ртутным катодом и повышенное выделение кислорода в хлоргаз при диафрагменном методе электролиза. [11]
При хромировании внутренней поверхности цилиндрических деталей обязательно применение подвесного приспособления, обеспечивающего строго концентричное взаимное расположение хромируемой и анодной поверхностей. Оптимальное межэлектродное расстояние при хромировании на указанном приспособлении составляет 15 - 20 мм. [12]
Подвески для хромирования внутренней поверхности деталей. [13] |
На рис. 36 показаны различные типы подвесок, используемых для хромирования внутренней поверхности деталей. Оптимальное межэлектродное расстояние при хромировании на указанных подвесках составляет 15 - 20 мм. [14]
Аноды располагают таким образом, чтобы вокруг каждой детали было не менее четырех анодов. Оптимальным межэлектродным расстоянием считается 100 - 150 мм. При сокращении этого расстояния до 50 мм наблюдается резкое снижение равномерности осаждения хрома. То же наблюдается при увеличении межэлектродного расстояния свите 200 - 250 мм. [15]