Cтраница 1
Растекание расплава по поверхности, или смачивание, осуществляется главным образом за счет поверхностной диффузии и потому облегчается при повышении температуры. [1]
Изменение натяжения пленки с толщиной. [2] |
Растекание расплава происходит по уже готовой пленке, а энергетические затруднения процесса определяются величиной энергии активации поверхностной диффузии. [3]
Схема равновесия сил поверхностного натяжения капли жидкости на поверхности твердого тела. [4] |
Растекание расплава припоя, как и всякой жидкости, по поверхности твердого тела определяется соотношением сил адгезии припоя к поверхности паяемого материала и когезии, характеризуемой силами связи между частицами припоя. [5]
Растекание расплава припоя, как и всякой жидкости по поверхности твердого тела, определяется соотношением сил адгезии припоя к поверхности основного металла и когезии, характеризуемой силами связи между частицами припоя. [6]
На растекание расплава по твердой металлической поверхности оказывает большое влияние шероховатость поверхности. [7]
На растекание расплавов титана и циркония по графиту влияют добавки таких элементов, как молибден, ниобий, алюминий и кремний. [8]
Адгезия и растекание расплава металла могут быть оценены по скорости растекания. [9]
Схемы отливочных столов. [10] |
Для предотвращения растекания расплава по периметру плиты имеются борта. [11]
В общем случае растекание расплава по поверхности твердого металла может осуществляться или через парообразную фазу, или путем перемещения ( миграции) атомов жидкого металла при поверхностной диффузии. Ввиду того что упругость паров расплавленных металлов весьма мала, в реальных случаях наиболее вероятна диффузионная природа растекания. [12]
При теоретическом рассмотрении растекания расплавов по поверхности тугоплавких металлов следует учитывать, что реальные процессы, протекающие на контактной границе, намного сложнее. На характер и кинетику растекания существенное влияние оказывает не только контактное взаимодействие, но и, например, процессы термической диссоциации, происходящие в оксидах при их растекании. [13]
В том же направлении ухудшается растекание расплава по подложке. Лучшее растекание в вакууме при 1100 С имеет расплав с хромом. [14]
Приведенные выше сведения показывают, что растекание расплава зависит от природы твердого металла, но характер этой зависимости, в свою очередь, определяется природой применяемого флюса. [15]