Cтраница 2
Прямые расчеты для многих режимов роста паровых пузырей в различных жидкостях при Ja 500 показывают, что безразмерный параметр G слабо изменяется за время роста. [16]
Вообще это уравнение характеризует асимптотическую стадию роста парового пузыря, причем его справедливость подтверждается экспериментальными данными. [17]
Физическую картину влияния диссоциации на процесс роста парового пузыря пока предположительно можно представить следующим образом. Вследствие затрат тепла в пограничном слое возникает градиент температуры, который увеличит теплоотдачу к пограничному слою жидкости от нагревающей поверхности. При увеличении давления, а следовательно, и а в паровой пузырь будет испаряться все большее количество низкокипящего NO2 наравне с испарением N2O4, и, наконец, NO2 будет испаряться больше, чем требуется для равновесия системы. [18]
![]() |
Рост паровых пузырьков в объеме перегретого хладона R113. [19] |
При кипении жидкостей на твердой поверхности нагрева рост паровых пузырей происходит в условиях существенно неоднородного температурного поля, причем паровой объем имеет границу не только с жидкой фазой, но и с твердой стенкой. Поэтому теоретический анализ закономерностей роста паровых пузырьков при кипении связан с большими трудностями, которые на сегодняшний день не преодолены. Вместе с тем понимание механизма роста пузырьков и последующего их отрыва от твердой поверхности очень важно для создания теории кипения в целом. Это обусловливает значительный интерес к теоретическому и экспериментальному ( с помощью скоростной киносъемки) исследованию динамики паровых пузырьков при кипении. [20]
Появление новых центров кипения, а также рост уже образовавшихся паровых пузырей приводят к разрушению частицы. При построении обсуждаемой модели взрыва главным принципом являлось выделение основных признаков процесса, по которым возможно провести сравнение теоретических расчетов с экспериментом, с целью дополнения теоретических результатов экспериментальными данными. [21]
Величина Duu может рассматриваться как характеристика скорости роста паровых пузырей на поверхности нагрева. [22]
В обоих случаях подобного анализа рассматривалась стадия асимптотического роста парового пузыря, в условиях которой, как это показано Плезетом и Цвиком, феноменологическая модель Босняковича приблизительно справедлива. И Зубр отметил недостатки теплопрово-дящей модели, когда ею пользуются для того, чтобы предсказать поведение парового пузыря на стадии его разрушения в недогретой жидкости. [23]
Анализ полученных данных показывает, что при росте парового пузыря на теплоотдающей поверхности резкое падение Тст происходит только в зоне контакта парового пузыря с поверхности), что указывает на интенсивный отвод тепла. Размеры этой зоны изменяются в процессе роста, однако она обычно меньше проекции пузыря на тепло-отдающув поверхность в момент отрыва. [24]
Итак, можно ожидать, что в реальных случаях рост парового пузыря - процесс чрезвычайно сложный, сочетающий в себе одновременно элементы, рассмотренные в обоих типах схем ( с учетом сделанных замечаний); причем при больших давлениях пузыри растут преимущественно за счет тепла, полученного жидкостью от стенки в период ожидания, а при небольших давлениях - за счет тепла, получаемого непосредственно от стенки через микрослой, хотя это лишь часть тепла, передаваемого от стенки к жидкости. И в том, и в другом случае на скорость роста пузыря и особенно на весь цикл активации зародыша и роста пузыря влияет сочетание тешюфизических свойств жидкости и стенки. [25]
Материал поверхности нагрева практически не оказывает влияния на скорость роста паровых пузырей. Величина Й0 / зависит от физических свойств жидкости и ее пара и почти не зависит от материала поверхности нагрева. [26]
Величина D0u имеет размерность скорости и является мерой быстроты роста парового пузыря на поверхности нагрева. [27]
Это - температурный напор, при котором в процессе роста парового пузыря или нескольких слившихся пузырей микрослой жидкости успевает испариться и температура стенки сухого пятна после отрыва пузыря некоторое время исключает новый контакт с жидкостью. Tw - Ts) ( Т г - Т) оно переходит в развитое пузырьковое кипение. [28]
Таким образом, с ростом давления облегчаются условия зарождения и роста паровых пузырей: уменьшается критический радиус зародышей паровой фазы и соответственно растет число действующих центров парообразования. [29]
Вследствие указанных выше причин пористые покрытия обеспечивают благоприятные условия возникновения и роста паровых пузырей и увеличения числа центров парообразования по сравнению с гладкой поверхностью. В результате этого существенно снижаются термическое сопротивление пограничного слоя у тепло-обменной поверхности и Д77, необходимая для возникновения и поддержания кипения, по сравнению с гладкой поверхностью. [30]