Большая Энциклопедия Нефти и Газа

Поосторожней с алкоголем. Он может сделать так, что ты замахнешься на фининспектора и промажешь. Законы Мерфи (еще...)

Рост - кристаллическая шероховатость

Cтраница 1

Катодные поляризационные кривые, полученные прн разной аффективной толщ к не диффулшшного слоя ( прн разной ннтенгкиносгк перемешивания раствора.  [1]

Рост кристаллической шероховатости обусловлен поликристаллической природой электролитических осадков и зависит от размера и формы зерен осадка. В спою очередь неравномерное микрораспределстше скорости электроосаждения по катодной поверхности обусловлено структурной неоднородностью последней. Эффекты истинного положительного и отрицательного выравнивания соответственно тормозят и ускоряют рост кристаллической шероховатости. В тех случаях, когда создаются условия электрокристаллизации, при которых образуются мелкозернистые осадки, кристаллическая шероховатость обычно не играет существенной роли в формировании микрорельефа поверхности электроосаждснных металлов и сплавов. Однако при нанесении гальванических покрытий на поверхность высокого класса чистоты ( на зеркально блестящую основу) кристаллическая шероховатость определяет профиль поверхности электролитического осадка.  [2]

Схема, иллюстрирующая аквипотенциальность микропрофиля.| Катодные поляризационные кривые, полученные при разной эффективной толщине диффузионного слоя ( при разной интенсивности перемешивания раствора.  [3]

Рост кристаллической шероховатости обусловлен поликристаллической природой электролитических осадков и зависит от размера и формы зерен осадка. В свою очередь неравномерное микрораспределение скорости электроосаждения по катодной поверхности обусловлено структурной неоднородностью последней. Эффекты истинного положительного и отрицательного выравнивания соответственно тормозят и ускоряют рост кристаллической шероховатости. В тех случаях, когда создаются условия электрокристаллизации, при которых образуются мелкозернистые осадки, кристаллическая шероховатость обычно не играет существенной роли в формировании микрорельефа поверхности улектроосажденных металлов и сплавов. Однако при нанесении гальванических покрытий на поверхность высокого класса чистоты ( на зеркально блестящую основу) кристаллическая шероховатость определяет профиль поверхности электролитического осадка.  [4]

Схема, иллюстрирующая эквипотенциальность микропрофиля.| Катодные поляризационные кривые, полученные при разной аффективной толщине диффузионного слоя ( при разной интенсивности перемешивания раствора.  [5]

Рост кристаллической шероховатости обусловлен поликристаллической природой электролитических осадков и зависит от размера и формы зерен осадка. В свою очередь неравномерное микрораспределение скорости электроосаждения по катодной поверхности обусловлено структурной неоднородностью последней. Эффекты истинного положительного и отрицательного выравнивания соответственно тормозят и ускоряют рост кристаллической шероховатости. В тех случаях, когда создаются условия электрокристаллизации, при которых образуются мелкозернистые осадки, кристаллическая шероховатость обычно не играет существенной роли в формировании микрорельефа поверхности электроосажденных металлов и сплавов. Однако при нанесении гальванических покрытий на поверхность высокого класса чистоты ( на зеркально блестящую основу) кристаллическая шероховатость определяет профиль поверхности электролитического осадка.  [6]

Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на микровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений.  [7]

Пели рост кристаллической шероховатости в процессе элек - ТроосаЖдения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слои металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрорасцределсиии скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое, выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а п микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное подрастание толщины слоя на микровыстунах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений.  [8]

Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на мнкровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений.  [9]

Поперечный разрез двухслойного покрытия ( слои / и 2, осажденного из выравнивающего электролита на поверхность с серией параллельных гребней треугольного поперечного сечення.  [10]

Наряду с эффектами положительного и отрицательного выравнивания на изменении микрорельефа поверхности в процессе электроосаждения сказываются также эффекты геометрического выравнивания и роста кристаллической шероховатости.  [11]

Рост кристаллической шероховатости обусловлен поликристаллической природой электролитических осадков и зависит от размера и формы зерен осадка. В спою очередь неравномерное микрораспределстше скорости электроосаждения по катодной поверхности обусловлено структурной неоднородностью последней. Эффекты истинного положительного и отрицательного выравнивания соответственно тормозят и ускоряют рост кристаллической шероховатости. В тех случаях, когда создаются условия электрокристаллизации, при которых образуются мелкозернистые осадки, кристаллическая шероховатость обычно не играет существенной роли в формировании микрорельефа поверхности электроосаждснных металлов и сплавов. Однако при нанесении гальванических покрытий на поверхность высокого класса чистоты ( на зеркально блестящую основу) кристаллическая шероховатость определяет профиль поверхности электролитического осадка.  [12]

Рост кристаллической шероховатости обусловлен поликристаллической природой электролитических осадков и зависит от размера и формы зерен осадка. В свою очередь неравномерное микрораспределение скорости электроосаждения по катодной поверхности обусловлено структурной неоднородностью последней. Эффекты истинного положительного и отрицательного выравнивания соответственно тормозят и ускоряют рост кристаллической шероховатости. В тех случаях, когда создаются условия электрокристаллизации, при которых образуются мелкозернистые осадки, кристаллическая шероховатость обычно не играет существенной роли в формировании микрорельефа поверхности улектроосажденных металлов и сплавов. Однако при нанесении гальванических покрытий на поверхность высокого класса чистоты ( на зеркально блестящую основу) кристаллическая шероховатость определяет профиль поверхности электролитического осадка.  [13]

Схема, иллюстрирующая эквипотенциальность микропрофиля.| Катодные поляризационные кривые, полученные при разной аффективной толщине диффузионного слоя ( при разной интенсивности перемешивания раствора.  [14]

Рост кристаллической шероховатости обусловлен поликристаллической природой электролитических осадков и зависит от размера и формы зерен осадка. В свою очередь неравномерное микрораспределение скорости электроосаждения по катодной поверхности обусловлено структурной неоднородностью последней. Эффекты истинного положительного и отрицательного выравнивания соответственно тормозят и ускоряют рост кристаллической шероховатости. В тех случаях, когда создаются условия электрокристаллизации, при которых образуются мелкозернистые осадки, кристаллическая шероховатость обычно не играет существенной роли в формировании микрорельефа поверхности электроосажденных металлов и сплавов. Однако при нанесении гальванических покрытий на поверхность высокого класса чистоты ( на зеркально блестящую основу) кристаллическая шероховатость определяет профиль поверхности электролитического осадка.  [15]

Страницы:      1