Cтраница 4
Гораздо раньше, чем рассмотренные выше фотополимеры, в практике фотолитографии нашли применение композиции, основанные на фотоструктурировании, часто с помощью сенсибилизаторов, относительно простых полимерных винильных соединений. Поливинилфурилак-рилат обладает высокой светочувствительностью и может структурироваться без действия сенсибилизаторов. [46]
Важную роль в процессе фотолитографии играют фоторезисты - органические светочувствительные материалы, изменяющие свою растворимость под действием света. Они должны обладать высокой светочувствительностью к ультрафиолетовой области спектра, высокой контрастностью и соответствующей разрешающей способностью, обеспечивать получение резко очерченных краев рельефа, сохранять геометрию изображения после проявления и фиксации, иметь высокую химическую стойкость к селективным хранителям. Для изготовления многослойных микросхем необходимы как позитивные, так и негативные фоторезисты. Используемые в настоящее время фоторезисты появоляют получать на стадии проявления линии шириной 0 3 мкм. [47]
Эти соединения получаются при действии соответствующих хлорформиатов моноалкильных или арильных эфиров этилен-гликоля ( или его гомологов) на 2, 5-диалкоксиа нилины и последующих нитровании, восстановлении и диазотировании. Такие диазосоединения обладают высокой светочувствительностью, способны вступать в реакцию азосочетания в нейтральной среде и образуют красители глубоких тонов. [48]
Эти соединения получаются при действии соответствующих хлорформиатов моноалкильных или арильных эфиров этилен-гликоля ( или его гомологов) на 2, б-диалкоксианилины и последующих нитровании, восстановлении и диазотировании. Такие диазосоединения обладают высокой Светочувствительностью, опособны вступать в реакцию азосочетания в нейтральной среде и образуют красители глубоких тонов. Выделение их в виде стабильных солей, например с хлористым цинком, по-видимому, невозможно вследствие исключительно высокой растворимости-и гигроскопичности. Поэтому было предложено [55] применять для нанесения на подложку непосредственно растворы диазо-соединений, получающиеся в процессе диазотирования, что представляет значительные неудобства. [49]
НС позволяет получить фоторельеф, удобный как для применения в полиграфических формах в качестве печатающих элементов, так и для защиты при глубинном травлении подложки. Эти композиции отличаются высокой светочувствительностью и стабильностью свойств: после 6 мес хранения не изменилась ни светочувствительность, ни длительность проявления слоев. [50]