Cтраница 4
Анализ графика ( рис. 25) показывает, что на длине зоны осаждения в диапазоне 0 9 - 7 9 диаметра от выхода завихрителя профили осевых и тангенциальных составляющих скоростей остаются практически неизменными. [46]
Соотношение хлоридов ниобия и олова в газообразной смеси, поступающей в зону осаждения, сильно влияет на состав пленки. [47]
В горизонтальном отстойнике ( рис. 24) различают две зоны: зону осаждения взвеси и зону накопления и уплотнения осадка. [48]
В горизонтальном отстойнике ( рис. 24) различают две зоны: зону осаждения взвеси и зону накопления и уплотнения осадка. Средняя глубина зоны осаждения принимается в пределах 2 5 - 3 5 м в зависимости от высотной схемы водоочистной станции; глубина зоны накопления и уплотнения осадка зависит от средней кодцентрации взвешенных веществ и от продолжителыности работы отстойника между двумя очередными чистками ( ом. [49]
Обычно стадии доставки реагентов в зону осаждения и удаления побочных продуктов из зоны осаждения называют стадиями массопереноса типа I. На этих стадиях перенос материала определяется динамическими свойствами газового потока в реакторе: его состоянием ( турбулентный или ламинарный), скоростью, вязкостью и др. Интенсивность доставки и удаления вещества может быть оценена по критериям подобия, детальный анализ которых проводится при исследовании газодинамических характеристик эпитаксиальных процессов. [50]
Повторная зарядка частиц способствует существенному повышению эффективности очистки воздуха без увеличения глубины зоны осаждения. [51]
Площадь поперечного сечения вертикального отстойника состоит из площади камеры хлопьеобразования и площади зоны осаждения. [52]
Стесненное или так называемое консолидированное осаждение характеризуется переменной концентрацией твердой фазы в зоне осаждения с плавным увеличением у дна аппарата до концентрации зоны уплотнения. [53]
Сравнивая формулы ( 99) и ( 105), убеждаемся, что зона осаждения в случае сферической частицы примерно в ( a / hcr) 1 / 2 раз шире. [54]
Площадь поперечного сечения вертикального отстойника ( рис. 14.3, б) включает площадь зоны осаждения и площадь камеры хло-пьеобразования. [55]