Cтраница 1
Отклоняющая система состоит из двух пар отклоняющих пластин ВОЪ В02 и Г0г, Г02, размещаемых во взаимно перпендикулярных плоскостях. Отклоняющие пластины отклоняют электронный луч в горизонтальном и вертикальном направлениях. Величина отклонения луча зависит от разности потенциалов между пластинами, при этом напряжение между пластинами должно изменяться так, чтобы средний потенциал оставался неизменным, иначе рост среднего потенциала отклоняющих пластин приводит к увеличению скорости электронов в луче. А это вызывает уменьшение чувствительности трубки, так как для отклонения на тот же угол более быстрого потока электронов требуется большая разность потенциалов между отклоняющими пластинами. Вместе с тем малое значение анодного напряжения не позволяет получить луч с достаточной интенсивностью. Для уменьшения этого противоречия применяют дополнительное ускорение электронов после их отклонения. Внутренняя сторона баллона, на которую направлен электронный луч, покрывается специальным люминесцентным составом, обладающим свойством светиться при ударах электронов. Цвет свечения экрана зависит от химического состава покрытия. [1]
Отклоняющие системы, используемые в электроннолучевых пушках предназначены для отклонения луча на заданное расстояние и для точной установки его на кромки свариваемого изделия. Электромагнитные отклоняющие системы изготовляют в виде четырех катушек соединенных последовательно попарно, расположенных под углом 180 друг к другу. Изменяя ток в катушках, можно устанавливать луч в любой заданной точке. Этот вид отклоняющей системы использован в отклоняющих системах телевизионных кинескопов. Другой вид электромагнитных отклоняющих систем изготовляют по типу обмоток роторов динамомашин. [2]
Отклоняющая система, как отмечалось выше, предназначена для перемещения электронного луча по экрану. [3]
Отклоняющие системы используются и для колебаний электронного луча поперек или вдоль направления сварки. Это позволяет применять присадочный металл и регулировать ширину шва. [4]
Отклоняющая система изменяет направление электронного луча и перемещает светящееся пятно по экрану трубки. Основной частью электронно-лучевой трубки является э л е к т р о и и а я ну ш к а - источник электронов. Электроны излучаются подогревным катодом К и проходят сквозь отверстие электрода М, играющего роль управляющей сетки. [5]
Отклоняющая система служит для юстировки осветителя относительно объектива. Она состоит из трех пар электромагнитных отклоняющих катушек и двух пар электростатических отклоняющих пластин. [6]
Отклоняющие системы для кинескопов состоят из двух пар катушек для строчной и кадровой разверток. [7]
![]() |
Ток развертки и ток динамической фокусировки в схеме, показанной па 6 - 35.| Передача сигналов развертки по коаксиальному кабелю для передающей камеры с вндиконом. [8] |
Отклоняющая система входит в цепь, состоящую из двух параллельных ветвей RL и RC с одинаковыми сопротивлениями в каждой ветви. Хорошо известно, что такая система образует цепь с постоянным полным сопротивлением, - которое можно сделать равным волновому сопротивлению R кабеля на всех частотах, включая и спектр гармоник строчной развертки, от 15 75 до ill. [9]
![]() |
Трубка с послеускорением луча.| Трубки с радиальным отклоиением луча. [10] |
Отклоняющая система, надетая на горловину трубки, медленно вращается, и луч описывает радиальные линии, медленно смещаясь по азимуту. Вращение катушки происходит синхронно с остронаправленной антенной. [11]
Отклоняющая система ( ОС) сдужит для управления положением электронного луча в пространстве посредством двух взаимно перпендикулярных и поперечных по отношению к оси ЭЛТ электрических или магнитных полей. [12]
Отклоняющая система служит для отсечения некогерентных электронов. [14]
Отклоняющие системы применяют для установки луча на шов или некоторой корректировки его положения относительно стыка, перемещения луча вдоль оси стыка при выполнении сварного шва; периодического отклонения луча при сварке с поперечными или продольными колебаниями луча и при слежении за стыком во время сварочной операции. Магнитное поле направлено поперек направления движения электронов, а сила, отклоняющая траекторию электрона, действует перпендикулярно оси луча и направлению магнитного поля. [15]