Скорость - осаждение - серебро
Cтраница 1
Скорость осаждения серебра и качество серебряных покрытий можно значительно повысить, если осуществлять процесс при периодическом изменении направления тока. Приводится следующий, проверенный автором режим серебрения: до 40 г / л AgCN, до 40 г / л КСМсвоб; до 50 г л К2СО3, 5 - 10 г / л КОН. [1]
Скорость осаждения серебра и качество серебряных покрытий можно значительно повысить, применяя реверсивный ток. Рекомендуется следующий состав электролита и режим серебрения: 30 - 4.0 г / л AgCN, 30 - 40 г / л KjCNCB06, 30 - 60 г / л К2СО3, 5 - J10 г / л КОН. [2]
При этом скорость осаждения серебра на катоде вследствие увеличения допустимой плотности тока возрастает в 4 - 6 раз в зависимости от амплитуды колебаний, а скорость анодного растворения - в 6 - 8 раз по сравнению с обычными условиями. [3]
 |
Составы электролитов и режимы для цианистых электролитов серебрения. [4] |
Для всех электролитов при выходе по току, близком к 100 %, скорость осаждения серебра при плотности тока 0 1 а / дм равна 3 8 мк / час. [5]
Процесс серебрения можно вести при температуре 18 - 55 С, причем повышение ее сопровождается увеличением скорости осаждения серебра. При эксплуатации раствора серебрения в нем накапливается небольшое количество свободного цианида. Для связывания его в комплекс в ванну загружают в бязевом мешКе свежеосажденный AgCl. Для восполнения убыли в растворе серебра его периодически корректируют, добавляя концентрат, содержащий в 4 - 5 раз больше этого металла, чем первоначальный состав. [6]
Для серебрения распылением применяют двухсопловые пистолеты. Скорость осаждения серебра зависит от концентрации соли серебра, вида восстановителя, давления, расстояния от поверхности. По мере удаления распыляющего устройства от поверхности скорость осаждения серебра на изделие уменьшается. [7]
 |
Зависимость количества осажденного серебра от расстояния до поверхности. Растворы при серебрении распылялись со скоростью 50 мл / мин. [8] |
В последние годы применяют серебрение путем распыления из двухсопловых пистолетов. Скорость осаждения серебра зависит от концентрации соли серебра, восстановителя, давления, расстояния от поверхности. В частности, на рис. 48 показана зависимость скорости серебрения от расстояния до поверхности. По мере удаления распыляющего устройства от поверхности скорость осаждения серебра на изделие уменьшается. [9]
Скорость осаждения может быть очень высокой при высокой плотности тока. Например, при плотности тока 1 мА / см2 скорость осаждения серебра составит 10 А / с; при увеличении плотности тока до 1 А / см2 скорость осаждения возрастает до 1 мкм / с. Пропорциональность между скоростью осаждения и плотностью тока сохраняется в том случае, если коэффициент о остается постоянным. Другими словами, в процессе осаждения не должно происходить вторичных реакций. [10]
В электролите № 2 осаждаются блестящие покрытия. Электролит № 3 используют для серебрения столовых приборов. Скорость осаждения серебра в электролите № 7 6 - 9 мкм / мин. [11]
Для серебрения распылением применяют двухсопловые пистолеты. Скорость осаждения серебра зависит от концентрации соли серебра, вида восстановителя, давления, расстояния от поверхности. По мере удаления распыляющего устройства от поверхности скорость осаждения серебра на изделие уменьшается. [12]
Из сульфатных электролитов получают цинковые покрытия: с более мелкозернистой структурой, а из цинкатных - без губки. Осаждающиеся никелевые покрытия обладают меньшей пористостью и внутренними напряжениями, а при определенных условиях - блестящей поверхностью без специальных блескообра-зующих добавок. Наложение переменного тока частотой 50 Гц, на постоянный при отношении 1перАпост 2 5 - 3 дает возможность повысить скорость осаждения серебра из цианидного-электролита и получить плотные гладкие светлые осадки толщиной до 500 мкм и более. [13]
Из сульфатных электролитов получают цинковые покрытие с более мелкозернистой структурой, а из цинкатных - без губки. Осаждающиеся никелевые покрытия обладают меньшей пористостью и внутренними напряжениями, а при определенных условиях - блестящей поверхностью без специальных блескообра-зующих добавок. Наложение переменного тока частотой 50 Гц, на постоянный при отношении inep / inocT 2 5 - 3 дает возможность повысить скорость осаждения серебра из цианидного электролита и получить плотные гладкие светлые осадки толщиной до 500 мкм и более. [14]
 |
Зависимость количества осажденного серебра от расстояния до поверхности. Растворы при серебрении распылялись со скоростью 50 мл / мин. [15] |
Страницы: 1 2