Максимальная скорость - осаждение
Cтраница 1
Максимальные скорости осаждения и наиболее чистые осадки карбидов получают обычно при использовании первого способа, так как в таком случае можно относительно точно регулировать соотношение металла и углерода. Данное обстоятельство обусловлено следующим. [1]
 |
Скорость осаждения титана при температуре нити 1500 С в зависимости от давления йодида титана. [2] |
Хотя максимальная скорость осаждения соответствует температуре стенок реактора 140 - 200 С, с достаточной скоростью процесс протекает при 100 С. В этом случае термостатирование реактора осуществляют погружением его в кипящую воду. [3]
Для SiO2 максимальную скорость осаждения получают при давлениях ( 1 - 2) - 10 - 3 мм рт. ст. При увеличении напряженности магнитного поля скорость распыления SiO2 может быть увеличена вдвое. При увеличении давления с 1 10 - 3 до 2 - 10 - 3 мм рт. ст. скорость нанесения уменьшается ( вдвое) независимо от наличия магнитного поля. [4]
Таким образом, максимальная скорость осаждения при 90 С составляет 4 5 А / ч, а при комнатной температуре приблизительно 0 7 А / ч, или же 1 мм SiO2 за 1600 лет. [5]
 |
Схема направления газового потока. [6] |
Отсюда видно, что максимальная скорость осаждения наблюдается при движении потока сверху вниз, минимальная - снизу вверх. [7]
В этом случае отмечается и максимальная скорость осаждения скоагулиро-ванных частиц. При значениях объемной скорости потока, больших или меньших указанного диапазона, эффективность очистки падает, что объясняется в первом случае разрушением ассоциаций агрегатов структурой потока, а во втором - недостаточным перемешиванием систем с флокулян-том. [8]
В этом случае отмечается и максимальная скорость осаждения скоагулиро-ванных частиц. При значениях объемной скорости потока, больших или меньших указанного диапазона, эффективность очистки падает, что объясняется в первом случае разрушением ассоциаций агрегатов структурой потока, а во втором - недостаточным перемешиванием систем с флокулян том, в результате чего не достигается необходимой глубины взаимодействия макромолекул флокулянта с коагулированными частицами загрязнений. [9]
Характерно, что даже при максимальной скорости осаждения ( 24 мк / мин) пленка имеет хорошую структуру. [11]
В кислых растворах не удается длительное время поддерживать максимальную скорость осаждения никеля на постоянном уровне. В щелочных растворах это удается при планомерном добавлении в ванну основных реагентов. [12]
При использовании добавок, повышающих скорость процесса, наблюдается, что максимальная скорость осаждения покрытия соответствует лишь определенной концентрации этих добавок. При отклонении концентрации добавок от оптимальной величины скорость никелирования падает. При прочих равных условиях максимальная скорость никелирования зависит от природы добавок. Если концентрация добавок меньше оптимальной величины, покрытия получаются блестящими. В тех же случаях, когда концентрация добавок превышает оптимальное значение, покрытия получаются матовыми или даже темными. [13]
 |
Типичная зависимость скорости осаждения Vdтермоактивированных. [14] |
На первый взгляд кажется привлекательным проводить процессы ХОГФ материалов в диффузионной области для обеспечения максимальных скоростей осаждения. Однако, с другой стороны, в диффузионной области трудно контролировать равномерность осаждения пленки по толщине по всей подложке, которая зависит от равномерности распределения реагентов в газовой фазе над поверхностью подложки. Распределение реагентов в газовой фазе определяется динамикой газовых потоков в реакторе, а следовательно, равномерность распределения реагентов трудно контролировать из-за сложной геометрии внутренних частей реактора. [15]
Страницы: 1 2 3