Радиоактивный слой

Cтраница 1

Радиоактивный слой электролитически нанесенных излучателей в первом приближении следует считать равномерно распределенным активным крутом, диаметром 10 мм, а. [1]

Установка для изготовления углеродных образцовых излучателей. [2]

Неравномерность нанесения радиоактивного слоя может привести к ошибкам в результате изменения геометрического коэффициента счета, а также увеличения самопоглощения из-за большой местной толщины слоя. [3]

Установка для изготовления углеродных образцовых излучателей. [4]

Проверка равномерности нанесения радиоактивного слоя для излучателей, нанесенных электролитически, с площадью активного слоя 0 8 см2, была проведена непосредственно по измерению активности различных участков поверхности слоя площадью i мм2 с помощью диафрагмы с малым отверстием. Диаметр отверстия был равен 1 1 мм, толщина диафрагмы соответствовала максимальному пробегу ( 3-частиц исследуемого изотопа. [5]

Авторадиограммы образцовых излучателей, изготовленные. [6]

Для быстрого качественного определения равномерности нанесения радиоактивного слоя были сняты авторадиограммы изготовленных излучателей. [7]

Схема резца с указанием площадки, на которую наносится радиоактивный слой. [8]

Для превращения нсрадиоактивных веществ, раздечя-емых методами ТСХ, радиоактивные слои сорбента с находящимися в нем компонентами анализируемых смесей облучают в некоторых случаях потоком нейтронов. [9]

Вместо снятия слоев можно измерять активность поверхности с нанесенным на нее радиоактивным слоем, как делалось в упомянутых первых работах Гевеши. Она уменьшается по мере диффузии в объем. [10]

Для повышения точности измерения интенсивности излучения следует обращать внимание на равномерность нанесения радиоактивного слоя. Равномерный слой препарата обеспечивает также большую стабильность счета. Обычно препарат готовят из водного раствора, который каплями наносится на подложку и затем высушивается. В этих условиях находящееся в капле пробы вещество может распределяться по площади резко неравномерно, имея тенденцию к концентрированию по периметру капли. При этом интенсивность в зависимости от изотопа и вида его соединения в различных участках препарата может различаться в десятки раз. [11]

Если при этом обычным методом радиоактивных индикаторов наблюдать диффузию меченых атомов из тонкого радиоактивного слоя ( например, слоя Na82Br), нанесенного на поверхность кристалла ( NaBr), внутрь кристалла, то, естественно, что измеренный коэффициент диффузии в приповерхностном слое будет меньше, чем в теле кристалла, так как концентрация анионных вакансий растет к поверхности. [12]

Это отклонение от упомянутых выше толщин активных слоев вполне допустимо для дозиметрических образцовых излучателей, так как такая толщина радиоактивного слоя соответствует [ 1 91 самоослаблению З - излучения таллия в оксидной пленке алюминия только - 1 % 2 в отличие от 0 3 %, указанных для электролитических излучателей. [13]

Пластинки из серебра толщиной - 0 1 мм с нанесенным на них слоем радиоактивного U () mAg; перед нанесением радиоактивного слоя пластинки должны быть отожжены в вакууме при температуре - 900 С в течение 30 мин. [14]

Применяя изотопы с малой величиной пробега излучения в веществе ( мягкое Р -, а-излучение), при расчете исходят из того, что изменение интенсивности со стороны нанесенного радиоактивного слоя соответствует изменению количества радиоактивного изотопа в слое, соответствующем толщине полного пробега излучения. [15]

Страницы: 1 2