Осажденный слой - металл - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Еще один девиз Джонса: друзья приходят и уходят, а враги накапливаются. Законы Мерфи (еще...)

Осажденный слой - металл

Cтраница 1


Осажденный слой металла может быть получен с точно заданными размерами по толщине.  [1]

2 Переходное сопротивление вольф - / 50 рамовых контактов после работы в разных средах. [2]

Осажденные слои металлов более электроизносостойки, чем массивные, и используются в режимах работы без дуги.  [3]

4 Шаблон для осаждения термоэлектрических материалов. [4]

По окончании процесса осажденные слои термоэлектрических металлов легко снимались с цилиндрической поверхности в виде ленты, состоящей из чередующихся полосок меди и никеля. Толщины ленты были равны 2 - 4 мк при ширине 0 3 мм.  [5]

Основное значение для защитных свойств гальванических покрытий имеет толщина осажденного слоя металла. Повышение толщины покрытия соответственно увеличивает его коррозионную стойкость.  [6]

Основное значение для защитных свойств гальванических покрытий имеет толщина осажденного слоя металла. Повышение толщины покрытий увеличивает их коррозионную стойкость.  [7]

Посредством электролиза осаждают металлы на поверхности рельефных изделий и, сняв затем осажденный слой металла, получают точный отпечаток рельефа. Такое копирование рельефных изделий с помощью электролиза называется гальванопластикой.  [8]

Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на микровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений.  [9]

Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на мнкровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений.  [10]

Использование осадков никеля с напряжениями сжатия при охлаждении водой облегчает отделение перфорированных гильз от форм; в некоторых случаях применяют легкое механическое воздействие на осажденный слой металла при вращении.  [11]

Ток фотоэлемента i пропорционален световому потоку, и так как поглощение излучения подчиняется экспоненциальному закону, то имеет место соотношение lg г А - Вх, где х - толщина равномерно осажденного слоя металла, а А к В - две константы, характеризующие данный металл.  [12]

Создать хороший омический контакт путем непосредственного нанесения слоя металла на поверхность полупроводника нельзя, так как на границе полупроводник - металл образуется потенциальный барьер с нелинейными свойствами. Поэтому осажденный слой металла обычно подвергают термообработке. В результате термообработки поверхностная область полупроводника обогащается атомами металла или специально добавляемого в металл элемента ( вследствие образования рекристаллизирован-ного или диффузионного слоя), что меняет электрические свойства контакта.  [13]

Рабочие свойства никелевой и медной копии в значительной мере определяются внутренними напряжениями. Если напряжения в осажденных слоях металла велики, то вообще невозможно получить копию или она будет иметь искаженную форму. Правило выбора внутренних напряжений в гальванопластике сформулировано на с. Напряжения должны быть такими, чтобы копия не отделялась от формы в процессе электролиза и не искажались ее геометрические размеры. Копию искаженной формы трудно вмонтировать в пресс-форму, припаять, приклеить, прикрепить винтами, кольцами, заклепками.  [14]

15 Приспособление для наращивания с анодной электрохимической обработкой. [15]



Страницы:      1    2