Тонкий слой - оксид
Cтраница 1
 |
Изотерма адсорбции кислорода на алюминии при 77 К ( по данным Скорчеллетти.| Кинетика адсорбции кислорода на серебре при различных температурах ( Ро2 200 мм рт. ст. [1] |
Тонкий слой оксида ( в несколько десятков ангстрем) имеет мелкокристаллическую структуру. При повышении температуры на нем возникают отдельные более крупные зародыши. С течением времени зародыши захватывают всю поверхность металла и первичная мелкокристаллическая пленка оксида нацело перекристаллизовывается в более крупные кристаллы. [2]
Хроматографический в тонком слое оксида алюминия, система растворителей: гексан, ацетон, аммиак. [3]
Хроматографический в тонком слое оксида алюминия, растворитель - бензол, проявление раствором хлората натрия и хлороводородной кислотой с 1-нафтолом и гид-роксидом калия [185] Хроматографический в тонком слое оксида алюминия, система растворителей: тетрахлорид углерода, этиловый спирт. [4]
Хроматографический в тонком слое оксида алюминия, система растворителей: бензол, ацетон. [5]
Хроматографический в тонком слое оксида алюминия, растворитель - бензол, проявление раствором хлората натрия и хлороводородной кислотой с 1-нафтолом и гид-роксидом калия [185] Хроматографический в тонком слое оксида алюминия, система растворителей: тетрахлорид углерода, этиловый спирт. [6]
Хроматографический в тонком слое оксида алю миния, система растворителей: бензол, ацетон. [7]
На воздухе покрывается тонким слоем оксида ZnO, предохраняющим металл от дальнейшего окисления. При низкой температуре цинк ломок, но при ПО-120 С хорошо гнется и раскатывается в листы. [8]
Реальная поверхность кремния содержит весьма тонкий слой оксида кремния ( 1 0 - 1 5 нм), который образуется в ходе технологических процессов полировки монокристалла и очистки его поверхности от примесей при химическом удалении поверхностного слоя, нарушенного механической обработкой и окончательной промывкой монокристалла в растворителях и воде. При этом поверхностные атомы кремния оксидной пленки могут быть связаны с гидроксильнымн группами, кроме того, на поверхности физически адсорбируются молекулы воды. Аналогичная картина имеет место и на поверхности кристаллического оксида кремния - кварца. Исходя из этого химическая гомогенизация поверхности указанных материалов должна включать, с одной стороны, удаление физически сорбированной воды, а с другой - достижение максимальной степени гидроксилирования поверхности. Последнее оказывается одним из важнейших условий при использовании поверхности твердых веществ в качестве матрицы для осуществления на ней направленного синтеза, например, оксидных структур методом молекулярного наслаивания. Предельная степень гидроксилирования обусловливает максимальное заполнение поверхности элемент-кислородными структурными единицами, и, таким образом, вопрос стандартизации гид-роксильного покрова поверхности при подготовке к синтезу является одним из важнейших, определяющим сплошность синтезированного методом молекулярного наслаивания слоя. [9]
 |
Вращение глемрнта жидкости при ламинарном движении и 1фуг юй.| Образовании кольцевого вихря при подъеме термина. [10] |
Во влажном воздухе покрывается тонким слоем оксида. [11]
Аминокапроновую кислоту выделяют на тонком слое оксида алюминия и проявляют действием нингидрина - - общего реактива на аминокислоты. В состав проявляющего реактива вводят Соль меди, стабилизирующую образующееся окрашенное соединение. Последнее извлекают метанолом и определяют фотометрическим методом. [12]
Хром атогр афический в тонком слое оксида алюминия, система растворителей: гексан, ацетон, аммиак. [13]
На воздухе свинец быстро покрывается тонким слоем оксида, защищающего его от дальнейшего окисления. [14]
На воздухе свинец быстро покрывается тонким слоем оксида, защищающего - его от дальнейшего окисления. [15]
Страницы: 1 2 3