Cтраница 2
С верха колонны 16 отбирается фракция тетрамера, с низа - фракция тяжелых полимеров. Фракция тетрамера направляется на дальнейшую химическую переработку, например для производства сульфонола; избыток легких полимеров и весь остаток из колонны 16 ( тяжелые полимеры) смешиваются и используются в качестве компонента автомобильного бензина. [16]
Существуют другие способы нанесения полимерных покрытий для получения многослойных материалов. По одному из них на подложку, в частности бумагу, наносится толстое полимерное покрытие, и избыток полимера снимается раклей или ножом. По другому способу заданное количество полимера наносится на подложку с помощью роликов, кисточек, каландрованием или наливом. [17]
Регенерацию последней осуществляют 80 % - ной серной кислотой. Далее ПМС, кислота и образовавшийся полимер разделяются отстаиванием. Избыток полимера выводится из системы. [18]
Следующим способом нанесения покрытий является разбрызгивание раствора полимера на ленту основы. В большинстве случаев применяются два шприцовочных пистолета для разбрызгивания раствора поперек направления движения ленты основы или до восьми шприцовочных пистолетов, которые совершают круговые движения над движущейся лентой основы. При круговом движении по краям ленты наносится избыток полимера; во избежание этого круговая траектория движения пистолетов не должна выходить за края ленты основы. Количество наносимого материала регулируется давлением в шприцовочном пистолете, размером его мундштука, частотой вращения ротора пистолета и скоростью движения ленты материала основы. [19]
Он обсудил адсорбционные характеристики полимерных молекул, которые, с одной стороны, могут адсорбироваться на поверхности только своей концевой частью, причем оставшаяся часть полимерной цепочки будет направлена радиально от поверхности, и, с другой стороны, могут адсорбироваться плашмя, когда все части молекулы присоединяются к поверхности. Конечно, могут иметь место обе ситуации в зависимости от природы самого полимера и от того, насколько велик избыток полимера по сравнению с количеством, требуемым для формирования плоского мономолекулярного слоя. [20]