Cтраница 1
Высокое содержание примесей в кислоте, в частности соединений магния, вызывает увеличение вязкости фосфорной кислоты, что лимитирует верхний предел концентрации F Os в упаренной кислоте. [1]
В случае высоких содержаний примеси железа ( при отношениях Fe2O3 к АЦОз более 2) его влияние устраняют добавлением аскорбиновой кислоты, образующей с ионами Fe ( III) комплексы, не влияющие на ход определения. Влияние титана устраняют введением фосфорной кислоты, а мешающее действие последней-совокупностью приемов: созданием высокого фосфатного фона, увеличением количества добавляемого реагента ( хро-мазурола S) по сравнению с общеизвестными методиками, применением дифференциального метода измерения оптической плотности. Определению не мешают 2500 -, 3000 -, 2500 -, 2-кратные количества фосфат-ионов, кальция, магния, фторид-ионов соответственно. [2]
В случае высоких содержаний примеси железа ( при от-ношениях Ре20з к А120з более 2) его влияние устраняют добавлением аскорбиновой кислоты, образующем с ионами Fe ( III) комплексы, не влияющие на ход определения. Влияние титана устраняют введением фосфорной кислоты, а мешающее действие последней - совокупностью приемов: созданием высокого фосфатного фона, увеличением количества добавляемого реагента ( хро-мазурола S) по сравнению с общеизвестными методиками, применением дифференциального метода измерения оптической плотности. Определению не мешают 2500 -, 3000 -, 2500 -, 2-кратные количества фосфат-ионов, кальция, магния, фторид-ионов соответственно. [3]
В случае высоких содержаний примеси железа ( при отношениях Рв203 к АЬОз более 2) его влияние устраняют добавлением аскорбиновой кислоты, образующей с ионами Fe ( III) комплексы, не влияющие на ход определения. Влияние титана устраняют введением фосфорной кислоты. [4]
Ил характеризуется высоким содержанием примесей песчаных и глинистых частиц, малой плотностью, высокой естественной влажностью, высокой пластичностью и водонасыщенностью, низкими параметрами прочности, повышенной и сильной сжимаемостью. Аллювиальные отложения в основании обводнены. Наиболее обводнен русловой галечниковый аллювиальный комплекс. [5]
Полупроводники с таким высоким содержанием примесей называются вырожденными, а их свойства очень близки к свойствам металлов. [6]
![]() |
Зависимость подвижности носителей заряда от температуры в примесном полупроводнике.| Зависимость удельной электропроводности невырожденного примесного полупроводника от температуры. [7] |
В полупроводниках с высоким содержанием примеси в области низких температур проявляется специфический механизм проводимости, получивший название проводимости по примесной зоне. [8]
![]() |
Энергетическая диаграмма ( а и вольт-амперная характеристика ( б р - n - перехода с туннельным эффектом. [9] |
Полупроводники с таким высоким содержанием примесей называются вырожденными, а их свойства очень близки к свойствам металлов. [10]
![]() |
Уровень Ферми в полупроводниках. а - до контакта о полупроводнике n - типа. б - до контакта в полупроводнике р-тшта. в - после контакта. [11] |
В электронном полупроводнике с высоким содержанием примесей при их концентрации порядка 1019 см-3 уровень Ферми располагается очень близко ко дну зоны проводимости. [12]
В связи с таким высоким содержанием примесей и трудностью отделения а-аминокислот от галоидных солей аммония нами была применена комбинированная схема очистки, заключающаяся в следующем. [13]
В электронном полупроводнике с высоким содержанием примесей при их концентрации порядка 1019 CM-S ( на границе вырождения) уровень Ферми будет лежать очень близко ко дну зоны проводимости. [14]
Хотя после удаления конечного участка с высоким содержанием примесей концентрация примесей в образце стала ниже по сравнению с первоначальной, все-таки имеется значительный градиент концентрации вдоль образца. [15]