Cтраница 1
Создание плазменной струи возможно при подаче в канал любых газов с избыточным давлением от сотых долей до десятка и более атмосфер. [1]
![]() |
Принципиальные схемы устройства для создания плазменной струи. [2] |
При создании плазменной струи по схеме со совмещенными каналом и соплом ( рис. 63, б) электрически активное пятно дуги в зависимости от состава и расхода газа, длины канала и других факторов располагается или на боковой поверхности канала, или на торце его. В этом случае длина дуги не является независимым параметром регулирования эффективной мощности плазменной струи. [3]
![]() |
Схемы устройств для создания плазменной струи. [4] |
При создании плазменной струи по схеме с совмещенными каналом и соплом ( рис. 100, б) электрически активное пятно дуги в зависимости от состава и расхода газа, длины канала и других факторов располагается или на боковой поверхности канала, или на торце его. В этом случае длина дуги не является независимым параметром регулирования эффективной мощности плазменной струи. [5]
Плазмотроны с внутренней дугой предназначены для создания плазменных струй, поэтому их называют струйными. В большинстве случаев они используются для напыления покрытий, плавки и сфероидизации порошков, формования изделий, выращивания монокристаллов, в плазмохимии и в ряде других процессов. Однако в таких плазмотронах иногда исходный материал вводят в область дугового разряда, например при плазменном напылении, когда порошок подают в дуговой канал до анодного пятна [43], а также при распылении проволоки, когда через нее пропускают электрический ток. Поэтому данные плазмотроны становятся плазмотронами прямого действия. В дальнейшем целесообразно различать плазмотроны по характеру обдува электрической дуги в разрядном канале. Среди них можно выделить плазмотроны с продольно-и поперечно-обдуваемой дугами. [6]
На рис. 63, а, б, в представлены схемы устройств для создания плазменной струи. [7]
При таком расположении каналов поток газа разделяется на две части: стабилизирующая часть попадает непосредственно в сопло и по винтовой линии проходит вблизи его поверхности, образуя кольцевой теплоизолирующий слой между потоком плазмообразующего газа и поверхностью сопла. Вторая часть потока - плазмо-образующая - участвует в создании плазменной струи и образует в приэлектродной области газовую воронку. В центре воронки создается сильное разрежение, позволяющее расположить вольфрамовый электрод 4 при незначительной осевой подаче защитного газа на расстоянии 1 5 - 2 мм от верхнего среза сопла. [8]
В некоторых типах дуговых плазмотронов границей сопла является кольцевой или тороидальный анод. Различают две группы дуговых плазмотронов - для создания внешней плазменной дуги и для создания плазменной струи. В плазмотронах второй группы плазма горит между двумя электродами ( катодом и анодом) и за счет поступающего плазмообразующего газа истекает из разрядной камеры в виде узкой длинной струи. [9]
Малоионизированная сравнительно холодная струйная оболочка газа, соприкасающаяся со стенками сопла и канала, изолирует последние от теплового воздействия разряда. Опусканием электрода в канал регулируется напряжение дуги и мощность плазменной струи. Создание плазменной струи возможно при подаче в канал любых газов с избыточным давлением от сотых долей до десятка атмосфер. [10]