Излучение - бетатрон
Cтраница 2
 |
Схема сравнения сигналов с предварительным интегрированием.| Схема сравнения сигналов фотоумножителей с предварительным их расширением. [16] |
Однако в двухканальном дефектоскопе, работающем по схеме измерения отношения напряжений или логарифма отношения двух напряжений, нет необходимости сохранять параметры фотоумножителей строго стабильными, достаточно поддерживать их одинаковыми. В дефектоскопе со схемой стабилизации питания ФЭУ контрольные импульсы расположены между импульсами излучения бетатрона. После разделения рабочих и контрольных импульсов последние, сравниваются по амплитуде и управляют напряжением питания одного из фотоумножителей таким образом, чтобы параметры обоих каналов измерения оставались одинаковыми. Электрические сигналы с детектора необходимо рассматривать как случайные величины. В случае радиоактивного источника случайной величиной является число импульсов за определенный промежуток времени, в случае регистрации тормозного излучения ускорителей - амплитуда импульса с детектора. В первом случае случайная величина распределена по закону Пуассона, во втором - по логарифмически нормальному закону. В том и другом случае с изменением измеряемого параметра ( плотности или толщины) изменяется распределение сигнала на выходе детектора. [17]
Это обусловлено тем, что изменение по величине амплитуды сигнала за счет нестабильности излучения бетатрона может быть равно и даже превышать изменения амплитуды сигнала, вызванные дефектом. Для устранения этого недостатка был разработан дефектоскоп с дифференциальным сцин-тилляционным счетчиком, в котором счетчики включались навстречу друг другу через соответствующие плечи мостовой схемы; это значительно снизило влияние нестабильности излучения бетатрона на работу дефектоскопа. [18]
 |
Рентгеновские снимки сварных.| Рентгеновские снимки литых деталей. [19] |
Еще большей проникающей способностью, чем у-луч, О бладает рентгеновское излучение бетатрона. Это значительно повышает четкость изображения и чувствительность просвечивания. Удельная интенсивность излучения бетатрона примерно в 105 - 106 раз больше, чем у источников у-излучения, например Со60, в результате чего время экспозиции при работе с бетатроном соответственно в десятки и сотни раз меньше. [20]
Для контроля качества изделий в цехе бетатрон размещают i специально оборудованном помещении, в которое подается изделие. Все высоковольтные блоки питания v управления работой бетатрона размещены непосредственно НЕ электромагните. Пульт управления бетатроном, а также пульт ручного управления его приводами могут быть удалень: на расстояние 20 - 50 м от места просвечивания. Пучок излучения бетатрона направлен вертикально вниз, поэтому необходимо обеспечивать защиту только от рассеянного излучения. [21]
Страницы: 1 2