Анизотропия - пленка
Cтраница 1
Анизотропия пленки, возникающая вследствие адгезии к подложке, на которой производится отлив, и в результате натяжения в процессе формования, приводит к нежелательным усадкам ее при эксплуатации. [1]
Анизотропия пленки может проявиться при отражении света, поляризованного в плоскости падения или перпендикулярно ей; при отражении от изотропной пленки в этих условиях поляризация не изменилась бы. Хотя такая модель и величины ег7с и не имеют точного физического смысла, но получаемые с помощью этой модели результаты во всяком случае верно отражают свойства, связанные с симметрией пленки, и можно ожидать также правильной зависимости от угла падения. [2]
Анизотропия пленки № 1 объясняется способом ее получения ( стекание раствора БК со стенок цилиндра), и, следовательно, результаты, связанные собственно с влиянием глобулярной и фибриллярной структуры на сопротивление разрезанию, несколько искажены молекулярной ориентацией. [3]
 |
Дртоматический торсионный магнитометр ( 49 ]. [4] |
Если пленка находится во вращающемся постоянном магнитном поле, то, вследствие анизотропии пленки, возникает изменяющийся вращающий момент Т, стремящийся повернуть подвес. Вращение подвеса регистрируется системой фотоэлементов, в результате чего через компенсационную катушку протекает ток, который возвращает подвеса свое первоначальное положение. [5]
На рис. 1.26 показано изменение линейных размеров пленочных образцов в направлении экструзии. Анизотропия пленок необычна: при температуре, превышающей температуру стеклования сополимера, в области, соответствующей дополнительной кристаллизации, пленки удлиняются в направлении фильерной вытяжки на 10 - 15 % и сокращаются в поперечном направлении. В температурном интервале 130 - 160 С, соответствующем аморфизации кристаллической структуры сополимера при отжиге ( см. рис. 1.25), наблюдается обращение усадки пленок. Пленки сокращаются в направлении экструзии, утолщаются и расширяются в перпендикулярном направлении. Различие усадочных характеристик пленок различных партий соответствует различной степени разрыхления их структуры при вытяжке в жидкости. [7]
 |
Запоминающий элемент на ЦМП. [8] |
Это достигается при небольшой величине поля Ясч, действующего вдоль оси трудного намагничивания. В этом случае повороту вектора намагниченности противодействует поле анизотропии Hk пленки, стремящееся вернуть вектор намагниченности в исходное состояние. При отклонении вектора намагниченности на угол, больший критического ( Ясч велико), информация в элементе разрушается. [9]
Чтобы научиться свободно получать пленки воспроизводимой толщины, нужно обладать определенными навыками и аккуратно работать; кроме того, следует использовать стандартные методы препарирования, точно соблюдая требования к температурному режиму, давлению и количеству взятого вещества. Но так можно поступать, если анизотропия пленки, вызванная деформацией, или же возможные структурные изменения не скажутся на результатах исследования. [10]
Двухосная ориентация возникает в том случае, когда пленка ноли-мера растягивается в двух направлениях, перпендикулярных друг другу. Сегменты полимерных цепочек стремятся расположиться параллельно плоскости пленки, но в самой этой плоскости ориентируются в более или менее случайных направлениях. В общем случае пленки, подвергнутые двухосной вытяжке, все еще обладают некоторым направлением преимущественной ориентации, хотя степень анизотропии пленки существенно меньше по сравнению с одноосно вытянутым образцом. [11]
Двухосная ориентация возникает в том случае, когда пленка полимера растягивается в двух направлениях, перпендикулярных друг другу. Сегменты полимерных цепочек стремятся расположиться параллельно плоскости пленки, но в самой этой плоскости ориентируются в более или менее случайных направлениях. В общем случае пленки, подвергнутые двухосной вытяжке, все еще обладают некоторым направлением преимущественной ориентации, хотя степень анизотропии пленки существенно меньше по сравнению с одноосно вытянутым образцом. [12]
Так как реальные пленки обладают одноосной анизотропией, у них в отличие от обычных массивных образцов петля гистерезиса ( см. гл. VI) в легком направлении имеет высокую прямолинейность, что обусловливает два стабильных остаточных состояния. Петля гистерезиса пленок в трудном направлении в большинстве случаев имеет вид прямой линии, наклон которой равен PmIHk, где Рт - намагниченность, a Hk - поле анизотропии пленки. При квазистатическом перемагничивании изменение намагниченности в легком и трудном направлениях обусловлено двумя различными процессами. Перемагничивание в легком направлении происходит путем движения доменных стенок, а в трудном направлении - в основном путем когерентного вращения намагниченности. [13]
Страницы: 1