Вихревая стабилизация
Cтраница 1
 |
Схема стабилизации режущей дуги. [1] |
Вихревая стабилизация используется также в одноразовых плазмотронах, например для воздушно-плазменной резки. [2]
При вихревой стабилизации процесс горения развивается винтообразно, создается устойчивая развитая зона объемного горения с образованием на оси потока зоны обратных токов. Сочетание вихревой стабилизации с камерным горением и с истечением продуктов сгорания через сужающее сопло камеры концентрирует тепловой поток и сообщает ему в зависимости от геометрии и размера камеры сгорания и давлений дозвуковые и сверхзвуковые скорости. Это значительно увеличит интенсивность теплопередачи по сравнению с горелками, у которых горение пламени происходит в атмосфере. Поэтому создание горелок такого типа для ряда процессов газопламенной обработки металлов является актуальной задачей. [3]
 |
Резак РПД-1-64 для. [4] |
При вихревой стабилизации дуги, применяемой в ряде конструкций резаков ( плазмотронов), газ в область сопло - электрод подается не по направлению оси электрода, а по касательной к нему. При этом в центре потока газа образуется зона разрежения, через которую проходит дуга. Слои холодного газа центробежной силой прижимаются к стенкам канала сопла, изолируя его от тепла дуги и центрируя столб дуги по вертикальной оси сопла. Дуга получается более концентрированной и жесткой, а ее диаметр уменьшается, что способствует получению более узкого реза. Газ подается тангенциально к дуге через вставку с канавками, направленными по касательной к центральному отверстию вставки. Вставки должны выдерживать напряжение до 2500 в и температуру до 1200 С. Материалом для вставок служит корундиз, содержащий в основе окись алюминия, или специальный материал из окиси магния и нитрида кремния. [5]
В реакторе осуществлена вихревая стабилизация дуги путем подачи газа через одно или несколько тангенциальных отверстий в корпусе реактора. [6]
 |
Зависимость напряжеобоя U, U и вели. [7] |
В реальных случаях вихревой стабилизации из-за вязкости скорость газа вблизи оси уменьшается. [8]
Вихревые плазматроны или плазмотроны с вихревой стабилизацией плазменного жгута известны давно, и их характеристики можно найти в изданных зарубежных и отечественных монографиях. Особенность таких устройств - это уже отмеченное ранее естественное конвективно-пленочное охлаждение корпусных элементов подаваемым через сопло закручивающего устройства потоком интенсивно закрученного газа, перемещающегося от сечения соплового ввода к противоположному концу вихревой камеры плазмотрона в виде квазипотенциального периферийного вихря. Одновременно осуществляя аэродинамическую стабилизацию, вихревые плазмотроны на базе вихревых энергоразделителей Ранка позволяют заметно повысить интенсивность повышения температуры плазменного факела при увеличении коэффициента теплоотдачи. [9]
Однако для плазмотронов переменного тока с вихревой стабилизацией дуги применение постоянного магнитного поля нецелесообразно по следующей причине. Если в какой-нибудь полупериод приэлектродный участок, или ножка дуги, вращается в ту же сторону, что и вихрь, то в следующий полупериод направление вращения изменится на противоположное. [10]
В качестве источника плазмы применялся плазмотрон с вихревой стабилизацией дуги и центральным вольфрамовым катодом. [11]
В качестве источника плазмы применялся плазмотрон с вихревой стабилизацией дуги и центральным вольфрамовым катодом. [12]
Исследования показали, что в цилиндрических конструкциях применение вихревой стабилизации позволяет получить плазменный стержень по оси металлического волновода без использования диэлектрической трубки. Причем плазменный стержень стабилен в любых газах. На воздухе и аргоне при возбуждении разряда па волне Нп почти полное поглощенно СВЧ энергии достигалось при длине стержня около 50 - 70 мм при частоте колебаний поля 2375 Мгц и диаметре волновода 100 мм. Диаметр плазменного стержня при этом был равен 20 мм. [13]
В конечном итоге напряжение на линейном плазмотроне с вихревой стабилизацией растет при повышении давления в камере, что свидетельствует о повышении электрического сопротивления за счет сокращения диаметра и возрастания длины дуги. [14]
По принципу устройства комбинированный плазмотрон похож на плазмотрон с вихревой стабилизацией дугового разряда, но имеет дополнительно наложенные магнитные поля в приэлектродных зонах для вращения разряда и управления его положением. [15]
Страницы: 1 2 3 4