Cтраница 1
Высокая степень разрежения, которая может быть достигнута в сварочной камере при сварке электронным лучом, способствует также разрушению поверхностных загрязнений и жидкостных пленок, которые, как правило, препятствуют получению качественного сварного соединения при дуговых способах сварки. [1]
Высокие степени разрежения могут быть достигнуты различными путями. В нашу задачу не входит подробное описание всех приборов и методов, применяющихся для этой цели. Дело в том, что многие из приемов откачки либо уже устарели, либо дают чрезвычайно малую производительность, либо связаны с довольно громоздкой аппаратурой, мало пригодной для рядовой научно-исследовательской лаборатории. Кроме того, почти все современные руководства по высокому вакууму, указанные в конце этой главы, уделяют достаточно большое внимание истории вопроса и изложению устройства приборов. [2]
Прибор представляет собой откачанный до высокой степени разрежения сосуд, помещенный в магнитное поле, линии которого перпендикулярны к плоскости чертежа. Простейшим источником является электрический разряд в газе. Разряд сопровождается интенсивной ионизацией газа. При положительной разности потенциалов между диафрагмой 2 и щелью источника из разряда будут отсасываться электроны и отрицательные ионы, при отрицательной разности потенциалов - положительные ионы. Заполняя источник различными газами или парами, можно получить ионы различных элементов. [4]
![]() |
Траектории заряженных частиц с равными начальными скоростями в однородном магнитном поле. а - большое отношение. [5] |
Прибор представляет собой откачанный до высокой степени разрежения сосуд, помещенный в магнитное поле, силовые линии которого перпендикулярны к плоскости чертежа. Простейшим источником является электрический разряд в газе. Разряд сопровождается интенсивной ионизацией газа. При положительной разности потенциалов между диафрагмой D и щелью источника из разряда будут отсасываться электроны и отрицательные ионы, при отрицательной разности потенциалов - положительные ионы. Заполняя источник различными газами или парами, можно получать ионы различных элементов. [6]
Прибор представляет собой откачанный до высокой степени разрежения сосуд, помещенный в магнитное поле, линии которого перпендикулярны к плоскости чертежа. Простейшим источником является электрический разряд в газе. Разряд сопровождается интенсивной ионизацией газа. При положительной разности потенциалов между диафрагмой 2 и щелью источника из разряда будут отсасываться электроны и отрицательные ионы, при отрицательной разности потенциалов - положительные ионы. Заполняя источник различными газами или парами, можно получить ионы различных элементов. [8]
![]() |
Данные, которые м / жно получить методом СЭМ при бомбардировке образца пучком электронов [ О. 66 ]. [9] |
Колонна микроскопа ( от электронной пушки до образца) откачивается до высоких степеней разрежения ( 10 - 5 мм рт. ст.) ротационным и маслянодиффузионным вакуумным насосами, чтобы исключить сильное рассеяние электронов воздухом. [10]
Под вакуумом понимается газ, в частности воздух, имеющий такую высокую степень разрежения [ давления около 10 - 5 - Ю-4 Па ], при которой движение электронов происходит практически без соударений с оставшимися молекулами газа. [11]
Под вакуумом понимается газ, в частности воздух, имеющий такую высокую степень разрежения [ давления около 10 5 - 10 - 4Па ], при которой движение электронов происходит практически без соударений с оставшимися молекулами газа. [12]
Дуга может зажечься между сближающимися или раздвигающимися контактами в пространстве с высокой степенью разрежения. Такие дуги иногда называют вакуумными. [13]
![]() |
Электростатическая электронная линза и ее оптический аналог. Цилиндры при различных потенциалах Уа и. ъ. [14] |
Колонна микроскопа ( от электронной пушки до флуоресцентного экрана) откачивается до высокой степени разрежения ( Ю-5 мм рт. ст.) с помощью ротационного и маслянодиффузион-ного насосов, предотвращая таким способом сильное рассеяние электронов воздухом. [15]