Плазменный столб

Cтраница 1

Плазменный столб обязательно неоднороден по плотности просто по той причине, что он имеет границы. [1]

Сравнительно устойчивый самосжатый плазменный столб можно получить, создавая внутри плазмы перед ее сжатием продольное магнитное поле. Затем вдоль трубы прикладывается напряжение, так что начинает течь продольный ток, создающий азимутальное магнитное поле. [2]

Схема, поясняющая понятие градиента. Направление градиента совпадает стрелкой. [3]

Такой плазменный столб может быть создан в длинной стеклянной или керамической трубке с помощью электрического разряда. При достаточно большой длине плазменного столба давление в его средней части будет сравнительно слабо изменяться в продольном направлении, но должно уменьшаться изнутри наружу. Чем больше изобар будет проведено, тем более точно они изобразят распределение давления в плазме. [4]

Ось плазменного столба перпендикулярна плоскости фигуры. [5]

Взаимодействие протекающего по проводнику тока с магнитным полем. [6]

Между границей плазменного столба и стенкой трубки нет ничего, кроме вакуума и магнитных силовых линий, так как заряженные частицы не могут проникнуть из плазмы в эту область. [7]

Зона существования плазменного столба дуги в вакууме определяется весьма неотчетливо. В первом, довольно грубом приближении можно полагать, что она имеет коническую форму, причем вершиной конуса служит катодное пятно, а его основание находится на аноде. Проводимость тока в плазме осуществляется электронами, эмигрирующими с катодного пятна и распространяющимися в виде конуса. [8]

Струя газа, плазменный столб или иной осесимметричныя объект могут испытывать без заметного нарушения внутренней структуры случайные поперечные перемещения, нередко характеризуемые значительными средними амплитудами и частотами. Скоростная фотоэлектрическая регистрация эмиссионного или трансмиссионного спектра при этом не всегда осуществима. [9]

Под действием этих полей плазменный столб дуги вынужден перемещаться по окружности в промежутке между торцами контактов в направлении, определяемом правилом левой руки, в то время как катодные пятна на поверхности контактов медленно двигаются в обратном направлении. В итоге в промежутке образуется как бы полая кольцеобразная дуга, находящаяся в диффузном состоянии, которая не в состоянии трансформироваться в свою разновидность в виде сжатой дуги. [10]

Изменение величины и плазмообразующей среды. [11]

Вследствие завихрения плазмообразующего газа плазменный столб дуги оказывает разное термическое влияние на правую и левую кромки реза. При правом завихрении газа больше тепла должно выделяться на правой кромке, так как анодное пятно смещается вправо. Исходя из этих условий были проведены исследования ЗТВ на правой и левой кромках. [12]

Получить в лабораторных условиях долгоживущий сжатый плазменный столб чрезвычайно трудно. Поведение плазмы качественно соответствует описанному в § 6 только во время первого сжатия. Затем плазменный столб быстро разрушается. Причиной этого разрушения является развитие неустойчивостей. Плазменный столб неустойчив по отношению к отклонениям от цилиндрической симметрии. Малые возмущения быстро нарастают и приводят к разрушению плазменной конфигурации за очень короткие времена. Детальный анализ неустойчивостей весьма сложен, поэтому мы ограничимся только качественным рассмотрением, причем остановимся лишь на двух простейших возмущениях, приводящих к неустойчивости. [13]

Точка Г соответствует образованию электронно-ионного - плазменного столба, начинающегося у анода и заканчивающегося у поверхности катода. Плазма - это смесь ионов и электронов, она обладает высокой электрической проводимостью, поэтому падение напряжения происходит только в слое между катодом и торцом плазменного столба; ударная ионизация также происходит в этой области катода, причем на ограниченной поверхности, площадь которой пропорциональна конкретному значению тока. Этот вид разряда называется нормальным тлеющим разрядом; его особенность состоит в неизменности напряжения t / a и плотности тока разряда плазменного столба. При увеличении тока нагрузки рабочая площадь катода под плазменным столбом автоматически расширяется, при уменьшении тока - сужается. Этот вид разряда применяется для стабилизации напряжения. [14]

Кимблин, Метод измерения нестационарной электропроводности плазменного столба. [15]

Страницы: 1 2 3 4 5