Влияние - температура - подложка
Cтраница 1
Влияние температуры подложки на структуру и триботехнические свойства тонких слоев MoS2, полученных высокочастотным катодным распыле-нием / М. В. Ноженков и др. / / Физика, химия и механика. [1]
Изучено влияние температуры подложки и источника индия, скорости подачи трех-хлорида фосфора, расстояния между источником индия и подложкой на структуру, скорость роста и электрофизические свойства пленок. [2]
Исследование влияния температуры подложки на степень совершенства эпитаксиального слоя показало, что оптимальные температуры для выращивания зеркально-гладких слоев без дефектов поверхности 700 - 730 С. Значение плотности дислокаций в эпитаксиаль-ных слоях составляло 7 - 103 - 4 - 105 см-2 и было примерно на порядок выше, чем в подложках. [3]
Изучение влияния температуры подложки на соотношение никеля и железа в пленках позволило установить, что при постоянном исходном соотношении паров Ni ( CO) 4 и Fe ( GO) 5 соотношение железа и никеля в образующемся покрытии не зависит от температуры подложек в интервале 80 - 250 С. [4]
Изучение [127] влияния температуры подложки на скорость роста железо-никелевых пленок показало, что характер роста пленок аналогичен росту никелевых и железных пленок и не зависит от аоотношепин никеля и железа в пленках. Это подтверждает наличие каталитического эффекта при совместном термическом разложении карбопилов железа и ш келя. [5]
 |
Шшененпе. ш лпчпны ионного тока пика 28 та / е в ламмсилю - ти от температуры iiiipo. Trii.. i Мо ( СО. [6] |
Исследовано L448 ] влияние температуры подложки, толщины покрытия, давления в реакционной камере на текстуру и структуру осадков молибдена, полученных термическим разложением гексакарГюипла молибдена на нагретой поверхности. [7]
В настоящей работе обсуждается влияние температуры подложки, остаточного давления в системе на дефектность прилегающей к переходу пленки германия. На рис. 1 представлены основные типы дефектов, наблюдавшиеся в эпитаксиальных пленках германия. Структура, показанная на рис. 1, а, характерна для пленок германия, полученных в вакууме - 10 - 7 торр при 7 480 - 520 С. Применение правила Геверса-Арта - Амелинкса показывает, что преобладают дефекты упаковки вычитания. [8]
Одним из недостаточно изученных факторов является влияние температуры подложки. При экспериментальных исследованиях оперируют, в основном, температурой смеси, из которой происходит осаждение. При этом подразумевается, что образование отложения происходит лишь при температурах ниже температуры помутнения смеси, т.е. после появления кристаллов твердой фазы. [9]
Один из этих путей связан с уже упоминавшейся ионизацией наносимых частиц при помощи их облучения электронами или ультрафиолетовым светом: одноименно заряженные частицы обладают меньшей склонностью к агрегированию. На другой путь указывает работа Кейта [62, 66], который изучал влияние температуры подложки и природы остаточного газа в вакуумной установке на зернистость напыленных слоев меди Он нашел, что слои, напыленные на подложку, охлажденную до температуры жидкого азота, обладали слабо выраженной зернистостью, но при нагревании их в вакууме вблизи комнатной температуры наблюдался значительный рост зерен. [10]
При напылении температура поверхности может играть существенную роль при образования химических связей и диффузии между материалом подложки и частицы, которые реализуются в контактной области. Обзор литературы по газотермическому напылению не дает однозначного ответа на вопрос о влиянии температуры подложки. В такой ситуации нет возможности однозначно предсказать, какой процесс будет реализован на практике - напыление или эрозия, - и будет ли оксидная пленка мешать закреплению частиц. Ситуация усугубляется еще и тем, что здесь возможно протекание и других процессов, например, воспламенения частиц при контакте с горячей поверхностью и плавления уже закрепившихся частиц, что приведет к образованию жидкой пленки на поверхности, которая затем может сноситься струей, осложняя тем самым процесс образования покрытия. [11]
Страницы: 1