Cтраница 3
Изучено влияние элементов, наиболее часто встречающихся в сталях и сплавах, на определение хрома при совместном их присутствии. [31]
На влияние элементов, маскирующих окраску тория с тороном, вносится поправка методом добавок. [32]
![]() |
Обобщенная схема включения транзистора по постоянному току. [33] |
Рассмотрим влияние элементов ( рис. 3.17) на коллекторное напряжение транзистора. Если коллекторной нагрузкой каскада служит колебательный контур, то к этой же неисправности приводит обрыв катушки или замыкание ее витков на экран. [34]
Рассмотрим влияние элементов схемы на коэффициент усиления на примере двухкаскадного усилителя на резисторах ( фиг. [35]
![]() |
Влияние посторонних ионов на определение рения. [36] |
Изучено влияние элементов основы и примесей на атомно-абсорбционное определение рения. Атомное поглощение рения измеряли при 346 04; 346 47 и 345 79 нм, причем чувствительность определения понижается в этом ряду. Калибровочные графики линейны в интервале 10 - 2000 мкг Re / мл. Вольфрам и тантал до 20 мг / мл практически не влияют на определение рения; молибден до 5 мг / мл увеличивает поглощение рения. [37]
Определим влияние элементов схемы усилителя на резисторах на прохождение прямоугольного импульса. [38]
![]() |
Эквивалентная схема полевого транзистора с р-п-переходом. [39] |
Рассмотрим влияние элементов эквивалентной схемы на параметры полевого транзистора. При работе полевого транзистора в схеме усилителя с общим истоком сопротивление Rc обычно включено последовательно с большим сопротивлением нагрузки RH. [40]
Закономерность влияния элементов на графитизацию была установлена советскими исследователями, показавшими, что и это свойство ( способствовать или тормозить графитизацию) зависит от электронного строения элементов и их положения в таблице Менделеева. [41]
Причину влияния элементов на полиморфизм железа следует искать в характере заполнения зон Бриллюэна, определяющих критическую электронную концентрацию. [43]
Опенку влияния элементов следует производить раздельно для первой и второй стадий графитизаци. Ранее мы уже указывали, что процессы графитизации обеих стадий являются диффузионными и вследствие этого скорость графитизаиии уменьшается с понижением температуры. [44]
Интенсивность влияния элементов на скорость первой и второй стадий графитиаации имеет исключительно большое значение. В частности -, па практике чаше всего требуется, чтобы металлическая основа чугуна была перлитовой. Для этого необходимо, чтобы первая стадия графитизации шла интенсивно, так как в противном случае в тонкой част отливки наблюдается отбел; скорость второй стадии должна быть небольшой, с тем чтобы не могло образоваться структурно свободного феррита в массивной части отливки. [45]