Изменение - скорость - осаждение
Cтраница 3
На рис. 7 - 5 а показано изменение скорости осаждения пленки кремния при различных плотностях тока электронного луча на подложке и трех различных температурах подложки. Каждое осаждение продолжалось 120 мин. [31]
Зависимости ( С0 - CK) / C0 f ( B), найденные при тонкослойном центрифугальном разделении суспензий, можно более или менее условно рассматривать как седиментационные кривые. Поэтому можно получить так называемый псевдодисперсный состав твердой фазы, который в определенной мере характеризует изменение скорости осаждения твердой фазы в роторе, обусловленное агрегированием частиц. [32]
Зависимости ( Со-CK) / C0 f ( B), найденные при тонкослойном центрифугальном разделении суспензий, можно более или менее условно рассматривать как седиментационные кривые. Поэтому можно получить так называемый псевдодисперсный состав твердой фазы, который в определенной мере характеризует изменение скорости осаждения твердой фазы в роторе, обусловленное агрегированием частиц. [33]
 |
Схема лабораторной установки для осаждения металлов в высокочастотном и электростатическом полях 51. [34] |
Результаты экспериментов приведены на рис. 110 и 111, на которых в зависимости от температуры подложки и других параметров показаны изменение скорости осаждения молибдена и его насыщенность углеродом и кислородом. [35]
 |
Распределение параметров осаждения вольфрама вдоль цилиндрического канала. [36] |
На рис. 1 показано типичное распределение параметров осаждения вдоль канала для одного из опытов. Общей особенностью осаждения вольфрама в наших опытах и в работах [4, 5] является наличие входного участка, где формируется структура потока, его поле температур и концентраций - Здесь по мере повышения температуры растет скорость осаждения и уменьшается концентрация реагирующего компонента ( WFe) в потоке. Затем в некотором сечении канала скорость осаждения достигает максимума и далее падает, несмотря на то, что температура остается постоянной. Падение скорости осаждения здесь обусловлено только изменением концентрации реагирующих компонентов и их соотношением в потоке. Следует заметить, что характер изменения скорости осаждения ( толщины покрытия) вдоль цилиндрического канала, показанный на рис. 1, имеет место и в случае осаждения из газовой фазы других соединений, например пироуглерода, нитридов и карбидов. [37]
Спирали характеризуются высотой их ступеней, которая составляет величину порядка 102 А или больше. Часто одна ступень содержит более мелкие ступени, не обязательно одноатомные. Оно растет [73, 85] с уменьшением плотности тока и увеличением расстояния от точек возникновения ступеней. Скорости распространения ступеней практически остаются постоянными в пределах некоторой области потенциалов [73]; отсюда следует, что высота ступеней изменяется незначительно с изменением скорости осаждения. [38]
Страницы: 1 2 3