Cтраница 3
![]() |
Симметричная система. [31] |
Рассмотрим дисторсию симметричной системы сначала при увеличении, равном минус единице, затем при изменении увеличения и при переходе к положению предмета в бесконечности. [32]
![]() |
Зависимость увеличения от расстояния до предмета и оптической силы. [33] |
Для практического использования систем линз наибольшее значение имеет реализация двух следующих возможностей: 1) изменения увеличения в широком диапазоне варьированием электрических параметров при фиксированных положениях предмета и всех линз и 2) достижения очень больших увеличений или уменьшений. Здесь мы вкратце рассмотрим вторую проблему, остановившись подробнее на вопросах, связанных с уменьшением. Естественно, выбор числа линз и их взаимного расположения зависит от назначения устройства. [34]
На рис. 1 приведена возможная классификация двухкомпо - 5нтных панкратических систем в зависимости от схемы переме-ения компонентов для изменения увеличения системы. [35]
![]() |
Меридиональная сферическая аберрация мениска при дальнем положении зрачка. [36] |
Такое изменение не затрагивает изменения сферической аберрации первой поверхности линзы, и поэтому изменение сферической аберрации всей линзы явится следствием изменения увеличения ее второй поверхности и изменения аберрации этой поверхности. [37]
Из приведенной выше формулы (24.25) следует, что развитие углового поля зрения в репродукционных объективах неблагоприятно сказывается на величине комы, возникающей за счет изменения увеличения, так как радиус комы возрастает при росте полевого угла. [38]
Изменение увеличения в оптических приборах может производиться; установкой перед объективом сменных телескопических насадок; сменными объективами или установкой объектива с переменным фокусным расстоянием; изменением увеличения оборачивающей системы ( сменой линз или плавно); сменой окуляров. [39]
Программы составлены в общем виде и могут быть исполь ваны для расчета любой двухкомпонентной или трехкомпонент: панкратической системы с линейной связью между перемещенш компонентов, изменение увеличения которой в заданном диапаз достигается за счет перемещения предметной плоскости и кажд из компонентов системы. [40]
Особенно заметный эффект применения асферических поверхностей имеет место в длиннофокусных системах с большим относительным отверстием ( зеркально-линзовые системы), а также в панкратических системах с большим диапазоном изменения увеличений. [41]
Большой практический интерес представляет создание панкратических систем с высокими оптическими характеристиками: большим перепадом увеличений, малыми размерами, высоким относительным отверстием, большим углом поля зрения, хорошим качеством изображения на всем интервале изменения увеличений. Однако широкому внедрению панкратических систем препятствуют трудности, связанные с чрезвычайно большой трудоемкостью и сложностью расчетов, несмотря на использование новейшей электронно-вычислительной техники, а также конструктивные и технологические недостатки разрабатываемых систем: значительные размеры, большое число линз, нелинейные законы перемещения компонентов, сравнительно невысокие перепады увеличений. [42]
Первая из этих трех схем обладала рядом положительных свойств - возможностью развития большого поля зрения при улучшенном светораспределении и хорошем исправлении полевых аберраций; однако этой схеме присуща значительная положительная сферическая аберрация в зрачках, что неблагоприятно влияет на изменение дисторсии и астигматизма при изменении увеличения. [43]
Использование репродукционных объективов большей частью связано с производством того или иного вида измерений; для обеспечения высокой точности измерений следует, по возможности, добиваться устранения дисторсии репродукционного объектива, что усложняется еще и тем, что работа подобных объективов может протекать в достаточно широком диапазоне изменения увеличения. [44]
![]() |
Основные данные большого проектора. [45] |