Типичная схема - установка
Cтраница 1
Типичная схема установки для измерения усиления в импульсных газовых лазерах методом усилителя представлена на фиг. Оборудование к ней перечислено в табл. 5.5. Назначение приборов ясно из сказанного выше. [1]
Типичная схема установки для напыления приведена на фиг. Давление остаточных газов составляет обычно 10 - 5 - 10 - е тор. [2]
 |
Схема установки, работающей под давлением. [3] |
Типичная схема установки, работающей под давлением, представлена на рис. 5.20. Эта схема может видоизменяться применительно к установкам того или иного назначения. [4]
 |
Схема установки аля опре - а п. [5] |
Типичная схема установки для определения а методом TIS приведена на рис. 6.5. Излучение от лазера 2, проходя через отверстие 5 в сферчие-ском зеркале 6, падает на образец 7, который может быть как плоским, так и сферическим. [6]
 |
Потеря напора воздуха в слое гранулированных адсорбентов при атмосферном давлении и комнатной температуре. [7] |
Типичная схема установки осушки природного газа под высоким давлением представлена на рис. 12.14. По этой схеме газ для регенерации адсорбента отбирается от главного потока влажного газа до редукционного клапана, вследствие чего поддерживается достаточное давление для течения регенерирующего газа через печь, адсорбер, холодильник и сепаратор, после чего этот газ возвращается в линию влажного газа. По другой схеме охлажденный газ после регенерации возвращается в систему примерно посредине высоты адсорбера, включенного на осушку. В этом случае для создания движущей силы, обеспечивающей течение регенерирующего газа, вместо падения напора в редукционном клапане используется падение напора в первой половине слоя, и требуемое падение напора всей осушительной установки снижается. На рассматриваемой установке нагрев регенерирующего газа до 182 С осуществляется водяным паром, поступающим при 197 С. После завершения регенерации, обнаруживаемого по повышению температуры выходящего газа приблизительно до температуры поступающего газа, подачу водяного пара в нагреватель прекращают ( можно также пропускать газ в обход нагревателя) и от газа отбирают небольшой поток для охлаждения регенерированного адсорбента. Когда слой охладится приблизительно до температуры поступающего на осушку газа, адсорбер можно снова включить на осушку. [8]
На рис. 2.80 приведены типичные схемы установок со струйными насосами. [9]
 |
Схема установки для разделения водного раствора уксусной кислоты в присутствии третьего компонента. [10] |
На рис. VI.15 представлена типичная схема установки для разделения водного раствора уксусной кислоты на практически чистые составляющие при помощи азеотропной ректификации с третьим компонентом. [11]
 |
Функциональная схема устройства для измерения добротности и коэффициентов связи. [12] |
На рис. 8.6 приведена типичная схема установки, реализующей данный метод. [13]
 |
Схематическое представление голографической системы для анализа размеров частиц, в которой используется голограмма Фраунгофера с осевым опорным пучком. [14] |
На рис. 1 приведена типичная схема установки, используемая для голографического определения размеров частиц. Освещение лучше всего осуществлять импульсным рубиновым лазером; этот лазер эбеснечивает время экспозиции 10 - 6 с, которое требуется при разрешении в несколько микрометров и при средней скорости частиц 100 см / с. Естественно, что более высокие скорости требуют еще меньших экспозиций. Луч света рубинового лазера с модулированной добротностью проходит через пространственный фильтр, коллимируется ( следует отметить, что коллимирование не является обязательным) и освещает исследуемый объем. Реальный объем, который может быть исследован, зависит от требуемого разрешения, но обычно он равен нескольким кубическим сантиметрам при размерах частиц от 2 мкм и более. Прежде чем записать голограмму, бывает выгодно ввести некоторое увеличение голограммы, чтобы облегчить требование к разрешающей способности регистрирующего материала. [15]
Страницы: 1 2