Температура - стенка - реактор
Cтраница 1
Температура стенок реактора поддерживается около 149 - 204 С, в то время как температура в зоне реакции не менее 1100 С. Даже при этих условиях необходимо применять вибрацию реактора, чтобы предотвратить накопление тонкого рыхлого порошка на стенках. [1]
Температура Тс стенки реактора ( или хладоагента) считается постоянной. [2]
Контроль и регулирование температуры стенки реактора осуществляется шестью регуляторами, каждый из которых имеет два задатчика. Один из задатчиков устанавливается на температуру, превышающую требуемую температуру продукта на 20 С, а второй - на 30 С, для сигнализации в случае поломки термоэлемента. [3]
Для контроля за температурой стенок реактора и устранения опасности местного перегрева в его корпусе необходимо устанавливать поверхностные термопары. Температура стенок реактора должна фиксироваться регистрирующими приборами. [4]
Для контроля за температурой стенок реактора с футерованной поверхностью и устранения опасности местного перегрева в его корпусе необходимо устанавливать поверхностные термопары. Температура стенок реактора должна фиксироваться регистрирующими приборами. [5]
Для контроля за температурой стенок реактора и устранения опасности местного перегрева в его корпусе необходимо устанавливать поверхностные термопары. Температура стенок реактора должна фиксироваться регистрирующими приборами. [6]
 |
Распределение температуры в оьолочке реактора с внутренним теп. [7] |
Испытания показали, что температура стенки реактора при коксовании сырья снижается на 276 - 385 С и составляет около 50 - 80 С. При этом полностью исключаются колебания температуры и сглаживается ее распределение по сечениям аппарата. [8]
 |
Скорость осаждения титана при температуре нити 1500 С в зависимости от давления йодида титана. [9] |
Хотя максимальная скорость осаждения соответствует температуре стенок реактора 140 - 200 С, с достаточной скоростью процесс протекает при 100 С. В этом случае термостатирование реактора осуществляют погружением его в кипящую воду. [10]
Метод, который также позволяет поддерживать температуру стенок реактора более низкой, чем температура покрываемых изделий, заключается в том, что подложки нагреваются до необходимой температуры вне реактора и отдельной камере и затем: подаются в камеру, куда поступают пары МОС. Он должен быть особенно эффективен при обработке очень больших изделий или изделий сложной формы. Метод пригоден глапным образом для получения тонких покрытий, однако, повторяя циклы, можно получать и толстые покрытия. [11]
F - поверхность теплообмена; tc - температура стенки реактора ( принимается одинаковой по всей поверхности теплообмена); t - температура вещества в реакторе ( принимается одинаковой во всем объеме реактора); т - время. [12]
Лабораторная установка оснащена необходимой аппаратурой для измерения температуры стенки реактора, температуры перегрева пара перед смесительной камерой и температуры пыле-газового потока за реактором. [13]
Описанная система тонкого регулирования температурного р жима и температуры стенки реактора широко применяется в промын ленности пластических масс не только для жидкой дифенильно смеси, но и при обогреве перегретой водой. [14]
Наконец, необходимо иметь в виду, что температура стенки реактора с внутренней стороны должна быть не ниже 175, в противном случае она покроется пленкой полимера, что еще более ухудшит условия теплопередачи. Последнее осложняет проблему отвода теплоты реакции, так как ставит определенный предел увеличению разности температур за счет применения искусственного холода. [15]
Страницы: 1 2 3 4