Толщина - оксидные
Cтраница 1
Толщина оксидных слоев может быть определена различными методами. [1]
Соотношение толщины оксидных слоев лимитируется многими факторами. Оксидные пленки такого типа имеют микропоры, по которым диффундируют ионы. Это приводит к образованию связанных друг с другом коррозионных микрогальванических элементов и способствует протеканию общей равномерной коррозии сплава. Однако вследствие возможной гетерогенности поверхности сплава ( что связано с методом изготовления, с образованием инкрустаций при эксплуатации, повышением концентрации солей в воде при аварийных или технологических простоях системы и в результате местных повреждений защитного оксидного слоя) возникают условия для протекания язвенной коррозии и как результат такого процесса наблюдается быстрое образование сквозных свищей. Нестабильность защитного слоя из оксида меди влияет и на другие виды коррозионного и коррозионно-эрозионного разрушения. [2]
Соотношение толщин оксидных слоев зависит от температуры и условий окисления. FeO ( вюстит) устойчив выше 570 С, Fe3O4 ( магнетит) - во всем интервале температур, a FjeaO3 ( гематит) устойчив до 1100 С, выше которой начинается его диссоциация. [3]
Установление зависимости толщины оксидных слоев на вентильных металлах от напряжения формовки и величины их диэлектрической проницаемости имеет существенное значение для расчета емкости электролитических конденсаторов. [4]
 |
Зависимость толщины оксидного слоя на алюминий от напряжения формовки. [5] |
Одновременно с определением зависимости толщины оксидных слоев от напряжения формовки были произведены измерения емкости оксидных слоев на тех же образцах алюминия, формованных в тех же электролитах. [6]
Одновременно с определением зависимости толщины оксидных слоев от напряжения формовки были произведены измерения емкости оксидных слоев на тех же образцах алюминия, формованных в тех же электролитах. По значениям емкости и толщины оксидного слоя была вычислена величина диэлектрической проницаемости. [7]
 |
Зависимость толщины оксидного слоя на алюминии от напряжения формовки. [8] |
В табл. 9 сопоставлены полученные в этих измерениях емкости на единицу поверхности, толщины оксидных слоев и диэлектрические проницаемости. [9]
В табл. 2 - 3 сопоставлены полученные в этих измерениях емкости на единицу поверхности, толщины оксидных слоев и диэлектрические проницаемости. В последнем столбце таблицы приведены значения коэффициента а в уравнении d а. [10]
При анодном включении в этих электролитах в первый период формовки на поверхности алюминия образуется тонкий слой окиси алюминия АЬОз, причем падение напряжения в прианодном слое, в зависимости от состава электролита и режима формовки, достигает значений от 6 до 60 в. При продолжении формовки падение напряжения в прианодном слое и сила тока через ячейку остаются постоянными, а на алюминиевом аноде продолжает наращиваться слой окиси алюминия. Длительной формовкой можно отложить значительно более толстые слои, чем в электролитах первой группы, причем при соблюдении известных предосторожностей толщина оксидных слоев в этих электролитах может быть доведена до 0 5 - 0 6 мм. Образующиеся в электролитах этой группы толстые слои отличаются значительной пористостью и состоят из гидратов окиси алюминия с примесью алюминиевых солей той кислоты, в которой ведется электролиз. В сухом состоянии эти слои отличаются довольно высокими диэлектрическими свойствами, резко ухудшающимися, однако, при увлажнении. [11]
Рост пленки происходит в слое, непосредственно примыкающем к металлу. Этот тонкий слой постоянно обновляется: он проницаем для ионов, участвующих в образовании сложного по составу оксидного слоя. Основные соединения алюминия, включающие анионы электролита, способствуют гидратации частиц А12О3, одновременно препятствуя их сополимеризации в направлениях, параллельных поверхности металла. Толщины оксидных пористых слоев, получаемых в кислых средах, составляют около 100 мкм. При рН 5 в состав пленок могут включаться и частицы гидроксида алюминия. [12]
Ко второй группе относятся электролиты, не растворяющие или слабо растворяющие алюминий и хорошо растворяющие окись алюминия. К электролитам этой группы относятся серная, щавелевая, хромовая и янтарная кислоты. При анодном включении в этих электролитах в первый период формовки на поверхности алюминия образуется тонкий слой окиси алюминия А12О3, причем падение напряжения в прианодном слое, в зависимости от состава электролита и режима формовки, достигает значений от 6 до 60 в. При продолжении формовки падение напряжения в прианодном слое и сила тока через ячейку остаются постоянными, а на алюминиевом аноде продолжает наращиваться слой окиси алюминия. Длительной формовкой можно отложить значительно более толстые слои, чем в электролитах первой группы, причем при соблюдении известных предосторожностей толщина оксидных слоев в этих электролитах может быть доведена до 0 5 - 0 6 мм. Откладываемые в электролитах этой группы толстые слои отличаются значительной пористостью и состоят из гидратов окиси алюминия с примесью алюминиевых солей той кислоты, в которой ведется электролиз. В сухом состоянии эти слои отличаются довольно высокими диэлектрическими свойствами, резко ухудшающимися, однако, при увлажнении. [13]
Страницы: 1