Cтраница 2
Толщина покрытия также окапывает существенное влияние па текстуру осаждаемого молибдена. Существует критическая толщина / i. Следует, однако, отметить, что величина Л, очень сильно зависит от температуры осаждения. Так, при температуре 850 С Л1ф равна 104 А, при 1000 С - 3 - Ю3 А, при 1120 С - 500 А. Так, при температуре 1550 С величина ЛК [) составляет менее 500 А, в то время как при осаждении молибдена на высокодисперсиый подслой окиси магния при этой же температуре подложки даже при толщине пленки порядка 1500 А текстура не наблюдается. Увеличение толщины слоя ведет к совершенствованию текстуры, а при толщинах около 50 мкм осаждающиеся: пленки молибдена имеют высокую степень совершенства текстуры. Покрытия еще большей толщины имеют уже гораздо менее совершенную структуру. [16]
Магнитные методы измерения толщины для топких пленок находят малое применение. Большинство из них основано на использовании сил притяжения между магнитом и магнитной подложкой, покрытой немагнитной пленкой. Если толщина пленки увеличивается, сила притяжения уменьшается. Метод магнитных сил может быть также использован для никелевых покрытий на немагнитной подложке. Другие магнитные методы основаны на использовании магнитных потоков, вихревых токов и магнитного насыщения. Все магнитные методы ограничены толщинами пленок порядка 0 003 см, хотя в некоторых случаях может быть измерена толщина пленки в несколько микрон. [17]