Толщина - окисная пленка
Cтраница 3
 |
Схема установки для исследования кинетики формовки. [31] |
В процессе роста толщина окисной пленки определяется прошедшим через нее количеством электричества. [32]
 |
Интерференция световых лучей в окисных пленках, возникших на поверхности образца, нагретого в вакууме и подвергнутого кратковременному воздействию кислорода. [33] |
При обычных температурах толщина окисных пленок составляет от 10 - 20 до 80 - 100 А. Эти пленки не всегда имеют кристаллическое строение. Часто они близки к аморфному, чему еще способствуют внутренние напряжения, возникающие при образовании фазовых окислов на сравнительно жесткой основе, которой является металл. Для таких металлов, как железо, алюминий, титан и др., определена структура окисных пленок с помощью электронографи-ческого метода. [34]
Соответственно будет меняться толщина окисной пленки, и при низких давлениях кислорода окислы на поверхности металла могут быть незаметными. [35]
При 300 С толщина окисной пленки А12О3 может достигать 20 нм, а при 500 - 600 С сотавляет 200 нм [35], а затем окисление прекращается. [36]
 |
Зависимость коэффициента линейного расширения а от температуры. [37] |
При комнатной температуре толщина окисной пленки на металле не превышает 50 А. Однако с ростом температуры и продолжительности нагрева она увеличивается и, например, на хроме после выдержки в течение 2 час. В наших опытах продолжительность окисления на воздухе не превышала 15 мин. [38]
Для текущего контроля толщины окисной пленки используется прибор ТЛП-2, выпускаемый учебно-производственными мастерскими московского техникума им. Прибор основан на принципе зависимости величины пробивного напряжения от толщины оксидной пленки. Данные о такой зависимости, составленные ВИАМ, приведены в табл. 78 и на графике фиг. [39]
В этих работах толщины окисных пленок определялись не только описанным выше способом при разных установившихся потенциалах, но и при неустановившихся потенциалах - по изменению потенциала в зависимости от количества протекшего электричества при постоянной силе тока; авторы исходили из того же предположения, что весь избыточный ток идет на утолщение пленки. [40]
Найденные предельные значения толщины окисной пленки удовлетворительно согласуются с опубликованными ранее данными, но несколько меньше их по величине. [41]
Более широкий диапазон толщин окисной пленки получается при применении метода электролитического окисления алюминия. В этом случае алюминий вводится в водный раствор электролита ( например, серной или борной кислоты) в качестве анода; под воздействием электрического тока на нем сравнительно быстро образуется пленка толщиной от долей микрона до нескольких микрон. При этом окись обнаруживает весьма прочное сцепление с поверхностью металла и хорошо выраженные защитные свойства. [42]
До недавнего времени толщины окисных пленок, дающих интерференционные цвета на железе, были менее определенны, чем пленки иодида на серебре. [43]
Обычно для определения толщины окисной пленки применяют спектральный анализ, цвета побежалости, петрографический метод и др. Как правило, методика определения толщины этого слоя сложна и трудоемка. До сих пор отсутствуют расчетные методы определения толщины окисного слоя на границе металл-шлак, хотя этот вопрос представляет большой интерес, так как напрямую связан с проблемой отделимости шлака, т.е. с качеством сварного соединения. [44]
Какая существует зависимость толщины окисной пленки от продолжительности анодного оксидирования s растворе серной кислоты при постояяном напряжении тока на клеммах ванны. [45]
Страницы: 1 2 3 4