Cтраница 1
Толщина напыляемой пленки зависит от скорости и времени процесса испарения, от конструкции источника испарения, а также от геометрии подложки и ее месторасположения относительно источника испарения. [1]
Соотношение ( 12) связывает все параметры, влияющие на толщину напыляемой пленки полимера. [2]
Для получения оптических пленок обычно используются вакуумные напылительные установки колпакового типа с применением оптических методов контроля толщины напыляемых пленок. [3]
В результате установлено, что при любых режимах напыления наличие маски на подложке приводит к уменьшению толщины напыляемой пленки и, как показали исследования Ra широких и узких резисторов, это уменьшение тем больше, чем меньше размеры щелей. Таким образом, существование эффекта маски установлено и в первом приближении заключается в том, что толщина пленок зависит от размеров щелей в маске, через которую они напылялись. Однако физический механизм данного эффекта остается пока неясным. В связи с этим представляет интерес исследование влияния технологических факторов на эффект маски. [4]
Необходимо иметь в виду, что при обоих методах оттенения с использованием перегородок расход оттеняющего материала значительно возрастает по сравнению с обычным методом. Кроме того, толщина напыляемой пленки оттеняющего металла, в случае использования в качестве испарителя нити, может контролироваться только по электрическому режиму испарения. [5]
![]() |
Измерение скорости напыления ионизационным манометром. [6] |
Метод позволяет контролировать и скорость напыления пленки. Для управления процессом напыления при таких скоростях применяются автоматические установки, которые контролируют толщину напыляемой пленки, производят запись режимов на самописце и прекращают напыление по достижении заданной толщины посредством включения заслонки. [7]
Внутри рабочей камеры расположены нагреватели 6 для обезгаживания, испаритель 8 для нагрева напыляемых веществ, трафарет ( маска) 9, обеспечивающий заданную конфигурацию тонкопленочного слоя, и подложка 10, на которой конденсируется испаряемое вещество. Между испарителем и маской помещена заслонка 3, позволяющая прекращать процесс напыления, как только толщина напыляемой пленки достигает требуемой величины. [8]
В связи с этим очень важно, чтобы достаточная контрастность оттенения достигалась при наименьшей толщине слоя. Этим требованиям удовлетворяют тяжелые металлы, способные сильно рассеивать электроны, такие, как золото, платина, палладий, уран, хром. Толщина напыляемой пленки зависит от металла. Средняя толщина пленки хрома, требующаяся для хорошего оттенения, составляет 50 - 70 А, в то время как для золота и платины достаточно 8 - 10 А. [9]
В связи с этим очень важно, чтобы достаточная контрастность оттенепия достигалась при наименьшей толщине слоя. Этим требованиям удовлетворяют тяжелые металлы, способные сильно рассеивать электроны, такие, как золото, платина, палладий, уран, хром. Толщина напыляемой пленки зависит от металла. Средняя толщина пленки хрома, требующаяся для хорошего оттенения, составляет 50 - 70 А, в то время как для золота и платины достаточно 8 - 10 А. [10]
Выбор рабочей частоты f зависит от диапазона толщин измеряемых пленок. Если требуется измерять очень тонкие пленки и необходим прибор с большой чувствительностью, то выбирают высокую рабочую частоту. Если же требуется прибор с достаточно большим диапазоном измеряемых толщин, обладающий большой областью линейной зависимости изменения частоты от толщины напыляемой пленки, то выбирают относительно низкую рабочую частоту. Чувствительность прибора в основном определяется стабильностью частоты измерительного кварцевого генератора и эталона частоты. Обычно чувствительность кварцевого резонатора Aim / A / 10 - 7 г / кгц. [11]
Частотный метод основан на измерении изменения частоты колебаний кварцевого кристалла при осаждении на нем пленки испаряемого вещества. Выбор рабочей частоты зависит от диапазона толщин измеряемых пленок. Если требуется измерять очень малую толщину пленки с помощью прибора, обладающего большой чувствительностью, то выбирают высокую рабочую частоту. Если же требуется прибор с достаточно большим диапазоном измеряемых толщин, обладающий большей областью линейной зависимости изменения частоты от толщины напыляемой пленки, то выбирают относительно низкую рабочую частоту. [12]