Равномерная толщина - пленка
Cтраница 1
Равномерная толщина пленки достигается равномерностью подачи раствора или расплава. [1]
 |
Зависимость скорости поглощения водорода JOT величины сорбции для пленки, полученной из алюмобариевого сплава при 1 150 - 1 250 С. [2] |
При равномерной толщине пленки это должно приводить к прекращению реакции после связывания водорода в количестве около 10 % от стехиометрического, что совпадает с экспериментальными данными. [3]
 |
Влияние относительных геометрических размеров испарителя, сосуда и относительного расположения испарителя, трафарета и подложки на возможность размывания точного изображения тени. [4] |
Для получения равномерной толщины пленки на подложке слишком высокие суммарные давления в системе недопустимы ( размытость краев. Для быстроты нанесения пленки на подложку желательны более высокие давления пара РА, отвечающие более высоким температурам Г2 испарителя. Таким образом, необходимо установление оптимальных давления и температуры испарителя. [5]
 |
Пленочный аппарат с восходящей пленкой. [6] |
В таких аппаратах трудно обеспечить равномерную толщину пленки выпариваемой жидкости. Кроме того, они весьма чувствительны к неравномерной подаче раствора и требуют для эффективного выпаривания поддерживания некоторого оптимального кажущегося уровня раствора в кипятильных трубах. Эти аппараты не рекомендуются для выпаривания кристаллизующихся растворов ввиду возможности забивки труб кристаллами. [7]
В прямоточных ( пленочных) аппаратах трудно обеспечить равномерную толщину пленки выпариваемой жидкости ( что необходимо для эффективной работы аппарата), кроме того, эти аппараты весьма чувствительны к неравномерной подаче раствора, а чистка длинных труб малого диаметра затруднительна. Поэтому пленочные аппараты вытесняются вертикальными выпарными аппаратами с циркуляцией раствора. [8]
В прямоточных ( пленочных) аппаратах трудно обеспечить равномерную толщину пленки выпариваемой жидкости ( что необходимо для эффективной работы аппарата), кроме того, эти аппараты весьма чувствительны к неравномерной подаче раствораг а чистка длинных труб малого диаметра затруднительна. Поэтому пленочные аппараты вытесняются вертикальными выпарными аппаратами с циркуляцией раствора. [9]
В прямоточных ( пленочных) аппаратах трудно обеспечить равномерную толщину пленки выпариваемой жидкости ( что необходимо для эффективной работы аппарата), кроме того, эти аппараты весьма чувствительны к неравномерной подаче раствора, а чистка длинных труб малого диаметра затруднительна. Поэтому пленочные аппараты вытесняются вертикальными выпарными аппаратами с циркуляцией раствора. [10]
Требование высокой плоскостности и высокой гладкости поверхности подложки диктуется необходимостью обеспечить равномерную толщину пленки. Волнистость, шероховатость, наличие загрязнений и другие дефекты поверхностной структуры подложек существенно ухудшают воспроизводимость характеристик пленок, уменьшают долю выхода годных изделий и надежность микросхем. Поэтому поверхность подложек тщательно обрабатывают: шлифуют, полируют и очищают от различных загрязнений. Способ очистки зависит от материала подложки. [11]
Если же скорость вытягивания превышает 100 мм / мин, то-трудно добиться равномерной толщины пленки по всей пластинке. [12]
При большой длине звукопроводов ( свыше 100 мм) центрифугирование не обеспечивает равномерной толщины пленки фоторезиста по всей поверхности. Метод вытягивания, заключающийся в погружении звукопровода в фоторезист и последующем медленном извлечении из него, в этом случае позволяет повысить равномерность пленки. В настоящее время перспективным считается также нанесение фоторезиста пульверизацией, отличающейся высокой однородностью пленки по толщине, отсутствием утолщения на краях, весьма малым количеством проколов и нарушений пленки и возможностью получения более толстых слоев фоторезиста. Методы вытягивания и пульверизации позволяют наносить фоторезист на звукопроводы не только большой длины, но и из хрупких материалов, центрифугирование которых трудно осуществимо. Однако метод пульверизации требует специальных быстро испаряющихся растворителей, тщательной очистки пульверизующего газа и довольно сложного оборудования. Сложное оборудование необходимо и для метода вытягивания. [13]
Вокруг выходной щели расположены установочные болты, при помощи которых производят регулировку концентричности мундштука и дорна для получения равномерной толщины пленки. Размеры головки определяются требуемыми размерами пленки а диаметр кольцевой щели обычно равен V3 ширины рукава пленки. Головки обогревают электрическими нагревателями кольцевого типа или при помощи циркулирующей жидкости; в некоторых случаях внутри дорна устанавливают нагреватель патронного типа. [14]
В ответ на замечание м-ра Дести я должен сказать, что при выводе этих теоретических уравнений были сделаны некоторые допущения, например предполагалась равномерная толщина пленки. Если теория справедлива, совпадение экспериментальных и теоретических данных является скорее проверкой не теории, а способности экспериментатора реализовать условия, принятые при выводе теории. Меня несколько удивляют некоторые результаты, полученные Скоттом и Хейзлдином, в частности начальное увеличение и последующее уменьшение величины, определяющей сопротивление массопередаче в жидкой фазе. Мы могли бы обсудить это позднее в частном порядке. [15]
Страницы: 1 2