Необходимая толщина - пленка
Cтраница 2
В рабочей камере может размещаться до шести катодов; число катодов зависит от количества материала, необходимого для создания слоев, а также от того, на одну или на обе стороны подложек должна напыляться пленка и сколько раз нужно производить напыление. Такая необходимость может возникать в том случае, когда из-за каких-либо параметров процесса требуется поддерживать температуру подложек ниже определенного значения, а необходимая толщина пленки не может быть достигнута при этой температуре за одно распыление. В подобных случаях цикл распыления может быть повторен один или несколько раз. [16]
Оптимальное, рабочее напряжение составляло 80 - 100 кв при расстоянии от распылителя до изделия 250 мм, скорость вращения распылителя 2000 об / мин, расход порошка 20 г / мин. В результате изучения свойств покрытий из поливинилбутираля было установлено, что пленка обладает хорошей адгезией к металлу и бетону. Минимально необходимая толщина пленки составляет 200 - 300 мк. [17]
Качественное воспроизведение движущихся объектов возможно лишь при условии существования рельефа на поверхности светомодулирующей пленки в течение времени, не превышающего длительность передачи одного кадра. Чтобы заряд, а следовательно, и деформация удерживались на пленке не более У25 сек ( времени передачи кадра), вязкая среда должна иметь определенную электропроводность, обеспечивающую стекание заряда на металлическую отражающую поверхность вогнутого зеркала за время не более As сек при максимальной величине видеосигнала. Для поддержания необходимой толщины пленки светомоду-лирующая среда непрерывно подается через питающую трубку к поверхности зеркала, а само зеркало медленно ( со скоростью несколько оборотов в час) вращается. Между питающей трубкой и сектором зеркала, на котором электронный луч создает телевизионный растр, помещена профилированная линейка, разглаживающая слой светомодулирующей среды. [18]
Природа растворителя оказывает исключительно сильное влияние на процесс формирования пленки фоторезиста. Наиболее широко распространенным методом формирования пленки фоторезиста является метод центрифугирования. Данный метод состоит из двух этапов: нанесения на подложку определенной дозы светочувствительного раствора и получения необходимой толщины пленки за счет вращения ротора центрифуги с заданной скоростью. В некоторых случаях при формировании пленок фоторезистов наблюдается плохое смачивание ими поверхности подложек. Это явление устраняется механическим распределением фоторезиста по всей поверхности подложек, что обусловливает, однако, повышенную неравномерность формируемых пленок по толщине и увеличивает их загрязненность. [19]
Рабочий цикл изготовления партии подложек начинается с их закрепления при поднятом колпаке камеры. Затем следует опускание колпака специальным механизмом ( на схеме не нумерован) и герметизация камеры, после чего начинается откачка камеры. При достижении заданной степени вакуума включается ионная пушка и начинается процесс напыления. После того как получена необходимая толщина пленки, происходит переключение карусели с лодочками распыляемого вещества и начинается напыление очередного слоя. [20]
Валки с резиновыми шайбами более устойчивы в работе, обеспечивают высококачественную лакировку и более просты в изготовлении. Обычно один из валков приводится во вращение электродвигателем через редуктор, а другой вращается под действием силы трения. Большинство машин существующей конструкции имеет два валка, которые, наносят пленку на пластины и одновременно подают их на транспортеры для запечки. Первая по ходу пара валков служит для подачи пластин, вторая - для нанесения лака, третья раскатывает лаковую пленку по всей поверхности пластины для получения равномерного покрытия и необходимой толщины пленки. [21]
 |
Оптические и термофизические свойства пластинок из полупроводниковых монокристаллов. [22] |
На рис. 6.23 показаны температурные зависимости коэффициента отражения R ( 9 ] на длине волны 1 15 мкм для пленок монокристаллического кремния толщиной 1 8 и 2 2 мкм. Толщины пленок выбраны таким образом, чтобы были выполнены два условия: а) при комнатной температуре коэффициент отражения находился вблизи максимума или минимума; б) зависимость R ( 0 ] монотонно изменялась при повышении температуры. При в 20 С минимальное отражение на длине волны 1 15 мкм для кремниевых пленок с толщинами вблизи 2 мкм наблюдается при h 1 79 1 95, 2 11 и 2 28 мкм. Максимальное отражение в этой же области толщин наблюдается при h - 1 87, 2 03 и 2 19 мкм. Для получения монотонного изменения коэффициента отражения в заданном диапазоне температур выбирается необходимая толщина пленки, при которой минимум и максимум отражения соответствуют границам температурного интервала. Температурный интервал между Rmax и Rmin увеличивается с уменьшением толщины пленки. [23]
Обычно при прочих равных условиях, чем выше содержание сухого остатка, тем более толстыми получаются пленки. Важное значение имеют методы распыления летучих лакокрасочных материалов с подогревом и безвоздушным способом, при использовании которых образуются пленки почти в два раза большей толщины, чем при нанесении тех же материалов обычным распылением. В этих случаях сказывается влияние не только содержания сухого остатка, но и особенностей процесса распыления. Для эффективного распыления вязкость раствора должна быть достаточно низкой, но это приводит к стеканию нанесенных лакокрасочных материалов с вертикальных поверхностей. Для предотвращения этого применяют быстро испаряющиеся растворители, которые улетучиваются уже во время распыления и тем самым способствуют повышению вязкости покрытия. Поэтому практически пределы толщины пленки зависят частично от повышения вязкости лакокрасочного материала при распылении и частично от неходкого содержания в нем сухого остатка. Летучие лакокрасочные материалы, предназначенные для нанесения упомянутыми выше методами, образуют толстые пленки не столько за счет высокого содержания сухого остатка, сколько за счет сильного увеличения вязкости в процессе распыления. В лакокрасочных материалах, распыляемых с подогревом, необходимая толщина пленок достигается в результате использования горячих растворителей, а в составах для безвоздушного распыления - благодаря необычно высокому содержанию весьма быстролетучих растворителей. [24]
Страницы: 1 2