Высокочистый водород
Cтраница 1
Высокочистый водород требуется для производства ультрачистых металлов, в частности для зонной плавки. Здесь водород играет исключительную роль, так как при его контакте с металлом не образуется второй твердой фазы. Почти столь же жесткие требования предъявляются к водороду, участвующему в процессе выделения дейтерия методом низкотемпературной дистилляции. Нормальная работа колонны и теплообменных аппаратов возможна при условии применения водорода, содержащего не более Ю-5-1 ( Н % примесей. [1]
Наиболее широко высокочистый водород применяется при получении поликристаллического кремния в процессе водородного восстановления хлорсиланов, наращивании эпитаксиальных слоев в тех же процессах, в качестве технологической среды при выращивании монокристаллов кремния, при низкотемпературной ректификации силана. [2]
Небольшие количества высокочистого водорода могут быть получены диффузионным методом, основанным на боле быстрой, чем у других газов, диффузии водорода через нагретые тонкие листы некоторых металлов. [3]
Опубликованные предложения пока относятся к получению высокочистого водорода в небольших количествах для топливных элементов, в электронной промышленности и для других специальных целей. [4]
Антимонид индия синтезируют совместным сплавлением исходных компонентов в кварцевом реакторе в атмосфере высокочистого водорода. С целью удаления летучих примесей расплав подвергают вакуумной термообработке при интенсивном перемешивании механическим путем или электромагнитным полем. Эффективным методом кристаллизационной очистки является зонная плавка. Процессы очистки проводят в аппаратах того же типа, что и при зонной плавке германия, но с нагревателями сопротивления. Очистка монокристаллов протекает более эффективно, чем поликристаялических слитков. Так, при зонной очистке монокристаллов, ориентированных в направлениях [211], [311] и [511], после 30 проходов расплавленной зоны может быть получен материал с подвижностью носителей заряда до 10е см2 / В-с при 77 К. [5]
Антимонид индия синтезируют совместным сплавлением исходных компонентов в кварцевом контейнере в атмосфере высокочистого водорода. Для удаления окислов из расплава его сливают после окончания реакции через отверстие в дне реактора. Заливка расплава в кварцевую лодочку, находящуюся в охлажденном медном блоке, позволяет избежать ликвации и получить гомогенные по составу слитки, наиболее пригодные для последующей зонной плавки. [6]
Поэтому наиболее эффективным средством повышения выхода кремния из трихлорсилана, одновременно снижающим расход высокочистого водорода, является проведение процесса водородного восстановления трихлорсилана в так называемом замкнутом цикле. Отходящая из реактора ПГС направляется в систему регенерации ( см. рис. 3.3, позиция 23), где из нее выделяют наиболее ценные продукты - водород и трихлорсилан. После очистки их возвращают в производство. Величина Мл в этом случае может быть снижена до 6 против 12 при работе в открытом цикле. [7]
Среди областей практического использования мембранной сепарации можно назвать следующие: извлечение водорода из технологических газов производства амммиака, метанола и гидроочистки нефти; регулирование отношения Нг / СО при синтезе метанола; получение высокочистого водорода; отделение H2S и СОг от метана и регенерация диоксида углерода при вторичной добыче нефти. В настоящее время интерес к мембранам для газоразделения тесно связан с нефтехимической промышленностью. [8]
В качестве катализаторов применяют работающие при низких ( 20 - 30 С) температурах палладиевые катализаторы в виде палладирован-ных ( покрытых слоем палладия) силикагеля, алюмогеля и др. Схема используемых для очистки инертных газов установок принципиально не отличается от применяемых для получения высокочистого водорода. [10]
Для формования применяют шликерное литье, прессование в стальных пресс-формах при давлении 700 - 850 кГ / см2 без пластификатора, гидростатическое прессование при давлении до 7000 кГ / см2 или горячее прессование. Заготовки спекают в атмосфере высокочистого водорода ( точка росы - 68 С) с добавкой небольшого количества воды для регулируемого окисления хрома. Образующаяся окись хрома вовлекается в механизм связывания - прочно сцепляется с хромом и образует твердый раствор с окисью алюминия. Температура спекания составляет 1450 - 1500 С. В качестве металлической составляющей используют никель, кобальт, железо, а также сплавы, например хромомолибденовый. [11]
Страницы: 1