Cтраница 2
Электролитическое травление является эффективным методом улучшения электрических характеристик после изготовления переходов. Для электролитического травления использовали составы, известные из литературы: спиртовый раствор HF HNO3 и раствор HF HNO3 в гликоле. [16]
Электролитическое травление производится в ванне с 5-процентной серной кислотой при плотности тока 1 3 - - 1 6 а / см2 и напряжении 6 в. [17]
Электролитическое травление, как известно, заключается в анодном растворении и происходит тогда, когда ток течет от полупроводника к электролиту. Электролитическое травление кристаллов со сплавными электронно-дырочными переходами по сравнению с химическим обладает определенными преимуществами, которые выражаются в большей возможности управления процессом травления. [18]
Электролитическое травление производится 10 - 20 % - ном растворе серной кислоты с добавлением необходимого количества соляной кислоты и поваренной соли под действием постоянного электрического тока. В качестве электродов в ванну завешивают пластины из свинца или кремнистого чугуна. [19]
Электролитическое травление может вестись как на аноде, так и на катоде. [20]
![]() |
Агрегат для струйного травления листовой стали. [21] |
Электролитическое травление может вестись как на аноде, так и катоде. [22]
Электролитическое травление заключается в удалении окислов с поверхности металла, погруженного в электролит, при пропускании через последний постоянного электрического тока. Травление можно производить как на аноде, так и на катоде - в первом случае электролитом служит раствор кислоты или соли щелочного металла, во втором случае - раствор кислоты. [23]
Электролитическое травление производится в ванне с 5-процентной серной кислотой при плотности тока 8 - 10 а / дм2 и напряжении 6 в. [24]
Электролитическое травление является широкоавтоматизированным процессом. При малой пропускной способности термических цехов и отделений применяют стационарные немеханизированные установки. Окалину удаляют иногда также с помощью стальных щеток. [25]
Электролитическое травление основано на различной скорости электролитического растворения отдельных структурных составляющих сплава. Шлиф опускается в ванну с электролитом, в которой он служит анодом. Через ванну пропускают ток определенной плотности до выявления структуры. Электролитическое травление позволяет получить более четкие структуры. [26]
Электролитическое травление этим раствором позволяет получить контрастную картину поверхностей зерен. [27]
Электролитическое травление и полирование широко применяются для исследования свойств и обработки полупроводниковых материалов и в технологии изготовления полупроводниковых приборов. В случае полупроводников процесс анодного растворения оказывается сильно зависящим от типа проводимости образца. Травление и полирование полупроводников n - типа в общем случае протекает значительно труднее, чем р-типа. Влияние типа проводимости на скорость анодного растворения наиболее изучено для германия. [28]
![]() |
Кривая зависимости анодной плотности тока от напряжения при электроиолиро-вании. [29] |
Электролитическое травление и полирование широко применяются для исследования свойств и обработки полупроводниковых материалов и в технологии изготовления полупроводниковых приборов. Для полупроводников процесс анодного растворения оказывается сильно зависящим от типа проводимости образца. Травление и полирование полупроводников n - типа в обшем случае протекает значительно труднее, чем р-типа. Влияние типа проводимости на скорость анодного растворения наиболее изучено для германия. [30]