Cтраница 2
Для увеличения разрешающей способности ЭМС на практике применяются пересчетные устройства, позволяющие серию из N импульсов регистрировать одним срабатыванием ЭМС или каким-либо другим регистрирующим прибором. [16]
Для увеличения разрешающей способности микроскопа вторым путем применяются ультрафиолетовые лучи, длина волны которых меньше, чем у видимых лучей. При этом должны быть использованы специальная оптика, прозрачная для ультрафиолетового света, и средства, преобразующие невидимое ультрафиолетовое изображение в видимое. [17]
Для увеличения разрешающей способности величины емкостей выгодно брать как можно меньшими. Но, с другой стороны, емкости являются запоминающими элементами; они сохраняют в какой-то степени заряд во время переходного процесса в триодах. [18]
![]() |
Сверхтонкая структура в спектре ядерного магнитного резонанса PF3. [19] |
С увеличением разрешающей способности аппаратуры можно достигнуть дальнейшего расщепления резонансных линий, причем расстояние между компонентами расщепления в отличие от химических сдвигов не зависит от напряженности внешнего поля. Это явление основано на взаимодействии магнитных моментов соседних ядер, которое осуществляется через электронные пары связей; оно было названо спин-спиновым взаимодействием. [20]
Об увеличении разрешающей способности оптических приборов: Докл. [21]
![]() |
Сравнение действия сухой и иммерсионной системы. [22] |
Второй способ увеличения разрешающей способности микроскопа состоит в применении ультрафиолетовых лучей, длина волны которых меньше, чем у видимых лучей. [23]
С целью увеличения разрешающей способности метода при выбранной частоте ультразвуковых колебаний, при которой устройство всей установки не вызывает больших затруднений, была принята фокусирующая система. Эта система при работе в жидкой среде, обеспечивающей хороший акустический контакт с иоследуемьгм изделием, устраняет влияние отражений ультразвуковой энергии при некотором изменении положения контролируемой площадки шва относительно направления ультразвукового пучка при непрерывном движении изделия. [25]
Другая возможность увеличения разрешающей способности интерферометра Фабри - Перо заключается в повышении коэффициента отражения R зеркал. Однако в реальном приборе такая возможность ограничена несовершенством его поверхностей. При очень высоком коэффициенте отражения К контуры от отдельных участков становятся столь узкими, что форма результирующего контура будет целиком определяться дефектами поверхностей. Дальнейшее увеличение R в таких условиях нецелесообразно, так как разрешающая способность не возрастает, а количество пропускаемой световой энергии убывает из-за сужения контуров от отдельных участков и получается лишь ухудшение отношения сигнала к шуму. Картина здесь аналогична той, что получается при сужении входной щели спектрографа, когда ее ширина меньше нормальной: разрешающая способность остается прежней, а интенсивность уменьшается. [26]
Установлено, что увеличение разрешающей способности Д резиста сопровождается снижением чувствительности к облучению потоком электронов. Постоянная чувствительности S резиста к облучению определяется минимальной величиной заряда, требуемой для экспонирования единицы площади резиста. Чем меньше постоянная чувствительности S, тем выше чувствительность. [27]
Одним из способов увеличения разрешающей способности рисунков и увеличения износостойкости фотошаблонов при контактной печати, является применение хромированных фотошаблонов [ см. разд. В этом направлении достигнуты большие успехи в формировании рисунка в слое фоторезиста с применением проекционных методов и голографии, не требующих применения фотошаблонов для контактной печати, но в этом случае необходимо вытравливать диапозитивы с рисунков увеличенного размера. Высокая разрешающая способность и устранение влияния дефектов в фотошаблоне достигается применением световых и электронно-лучевых методов создания рисунка. Эти методы отличаются дополнительным преимуществом - использованием при расчете и конструировании рисунка вычислительных машин, благодаря чему устраняются трудоемкие, продолжительные и дорогостоящие операции изготовления оригинала. [28]
Именно за счет увеличения разрешающей способности применявшейся аппаратуры следует отнести неуклонное увеличение оцениваемых значений плотности тока дуги за несколько последних десятилетий. Уже сам по себе указанный прогресс говорит о ненадежности данного метода оценки плотности тока. Во-вторых, даже если бы и удалось получить действительно мгновенное изображение катодного пятна, к чему, по-видимому, приблизился в своих экспериментах Фрум, то и тогда следовало бы считаться с возможностью значительной ошибки, связанной с отождествлением светящейся области с самим каналом тока, которым определяется максимальное значение градиента электрического поля у поверхности катода. Таким образом, анализ применявшихся методов оценки плотности тока у катода дуги приводит к выводу, что по самому их принципу эти оценки должны приводить к заведомо заниженным значениям плотности тока, не дающим точного представления о величине электрического поля у катода дуги, с чем необходимо считаться при использовании их для вычисления автоэлектронной эмиссии катода. [29]
Посмотрим, как влияет увеличение разрешающей способности на помехоустойчивость по отношению к пассивным помехам. [30]