Увеличение - экспозиция
Cтраница 2
Большим преимуществом такого рода выравнивающего проявления является то, что оно не требует увеличения экспозиции. [16]
Вторая эмульсия, менее чувствительная, чем первая, имеет обычную характеристику - увеличение экспозиции приводит к увеличению плотности. [17]
Согласно (4.49), в отсутствие инжекции поле вблизи отрицательного электрода неограниченно возрастает с увеличением экспозиции. Очевидно, что такое невозможно в реальной ситуации. В [4.52, 4.53] показано, что поле у электрода с напряженностью в несколько сот кВ / см вызывает заметную инжекцию электронов с электрода в кристалл BSO. После того как поле достигает такой напряженности, инжекция оказывает существенное влияние на дальнейшее формирование поля и заряда, что является основной особенностью третьего этапа их эволюции под воздействием записывающего света. На этом этапе инжекция сначала замедляет, а затем полностью останавливает рост плотности положительного заряда в приэлектродной области. Последнее в свою очередь стабилизирует поле у контакта и, следовательно, ток инжекции, который устанавливается равным фототоку в кристалле. Отрицательный заряд с контакта частично компенсирует положительный заряд в приэлектродной области. В результате этого поле в области узкого горла возрастает, что позволяет заметной части электронов проникать через узкое горло в примыкающую часть кристалла. За узким горлом электроны захватываются на ловушки и образуют отрицательно заряженную область кристалла. Таким образом, формируется двойной заряженный слой: положительный заряд располагается непосредственно у поверхности кристалла, а отрицательный - за узким горлом электрического поля. [18]
Лишь для Ir192 толщиной до 15 мм наблюдается незначительное ( до 10 %) увеличение экспозиций, так как в этой области толщин измеренные значения и, ( u s) лежат ниже применяемых значений 0 2 мм. [19]
Эта уникальная чувствительность к произвольно ориентированным трещинам может быть еще более улучшена за счет увеличения экспозиции и толщины слоя или даже снижения [ см. ( 135) и ( 139) ] предела пространственного разрешения. [20]
 |
Рентгенограмма клеевого соединения. [21] |
Эта уникальная чувствительность к произвольно ориентированным трещинам может быть еще более улучшена за счет увеличения экспозиции и толщины слоя или даже снижения [ ( см. ( 135) и ( 139) ] предела пространственного разрешения. [22]
 |
Спектральное положение края поглощения фильтра по отношению к УС-серии излучения анода. [23] |
Правда, интенсивность а-излучения при этом тоже уменьшится, поэтому применение фильтров ведет к увеличению экспозиции приблизительно в 1 5 раза. [24]
 |
Экспозиция короткой волатильности. [25] |
Обратите внимание на аномалию: ниже цены исполнения опционов колл, как и ожидается, мы видим планомерное увеличение экспозиции с увеличением срока до истечения, а выше цены исполнения снижение экспозиции не отличается регулярностью - вначале она действительно уменьшается, а потом начинает возрастать. В чем здесь причина. Дело в том, что опцион фактически торгуется на форвардную цену базового актива, а так как в данном случае мы рассматриваем фондовый рынок, предполагающий рост цен с большей вероятностью, чем их снижение, то это находит свое отражение в дельте опционов. В реальности волатильность опционов разных сроков до истечения на один и тот же актив различается ( опционы с меньшим сроком жизни характеризуются более высокой волатильностью по сравнению с более долгоживущими опционами), что приводит к устранению аномалии, несколько выравнивая тенденцию экспозиции. [26]
Для ряда фотографических материалов после достижения максимального почернения на кривой имеется область соляризации В, где плотность почернения уменьшается с увеличением экспозиции. Точка пересечения продолженного прямолинейного участка с осью абсцисс ( экспозиция) называется точкой инерции. [27]
Фотографическая регистрация имеет преимущество, заключающееся в интегрирующем эффекте метода, и этим методом может быть зарегистрирована очень слабая люминесценция путем увеличения экспозиции до нескольких часов. Это особенно важно для ближней инфракрасной области спектра, где чувствительность фотокатодов быстро падает. Фотографические эмульсии также малочувствительны, но чтобы компенсировать этот недостаток, можно увеличить время экспозиции. Для исследовательской работы, когда область длин волн люминесценции неизвестна, большое значение имеет применение спектрографа, так как за одну экспозицию может быть охвачена широкая область спектра. [28]
Прослеживая весь ход образования тональности снимка, заметим, что в этом процессе не последнюю роль играет экспозиционный расчет фотографа, потому что увеличение экспозиции и повышение плотности негатива ( конечно, лишь в определенных пределах, за которыми возникает технический брак) способствуют образованию светлой тональности, если, разумеется, она заложена в самом объекте съемки и поддержана эффектом освещения. Но при высоких контрастах освещения фотографу приходится решать, как именно следует экспонировать негатив - по яркости светов или по теням. Решает этот вопрос освещение сюжетно важного элемента кадра: если он находится в тени, экспозиция устанавливается именно по теням, а если ярко освещен, то в основу экспозиционного расчета ложится замер этой высокой яркости. [29]
Поскольку с увеличением длительности экспозиции при облучении в одной и той же дозе число вызванных рентгеновыми лучами обменов уменьшается, следует ожидать, что число хроматидных и хромосомных разрывов с увеличением экспозиции при постоянной дозе будет немного возрастать. Полученные в эксперименте данные ( см. рис. 36, кривая 4) не свидетельствуют об увеличении числа хроматидных разрывов с увеличением экспозиции при постоянной дозе. Они, однако, не исключают возможности увеличения числа разрывов до 10 % при переходе от наименьшей ( из примененных в опыте) экспозиции к наибольшей. Этот результат несомненно справедлив, но тем не менее мало что дает. Очевидно, этот метод нечувствителен, и для получения с его помощью достоверных результатов нужны очень точные данные. [30]
Страницы: 1 2 3 4