Дальнейшее увеличение - толщина - пленка
Cтраница 1
 |
Форма фигур роста на грани N. а - в направлении СД. б - в обратном направлении. [1] |
Дальнейшее увеличение толщины пленки происходит путем образования кристалликов у одного конца подложки и их разрастания в направлении противоположного ее конца. Такое разрастание приводит к образованию надвигающегося на первый слой фронта, а форма фронта изменяется с изменением температуры. Надвигающиеся слои отстоят друг от друга на значительных расстояниях, и эти расстояния между растущими ступенями изменяются с изменением температуры зоны подложки. [2]
С дальнейшим увеличением толщины пленки количество фигур роста на ее поверхности уменьшается, а их диаметр увеличивается. [3]
При дальнейшем увеличении толщины пленки внешние молекулы удерживаются уже не адсорбционными силами на поверхности раздела твердая частица - жидкость, а междумолекулярным сцеплением жидкости. Пленки такого рода образуют пленочную жидкость. [4]
 |
Замкнутая доменная структура в пермаллоевых ст. айп-пленках. [5] |
При дальнейшем увеличении толщины пленки наблюдается тенденция к переходу к доменным структурам замкнутого типа. [6]
При дальнейшем увеличении толщины пленки внешние молекулы удерживаются уже не адсорбционными силами на поверхности раздела твердая частица - жидкость, а междумолекулярным сцеплением жидкости. Пленки такого рода образуют пленочную жидкость. [7]
 |
Прибор для измерения толщины пленок взвешиванием. [8] |
При дальнейшем увеличении толщины пленки отражение усиливается и достигает максимума при толщине, равной половине длины волны. Практически можно производить наблюдения до 10 - 20 экстремумов в зависимости от оптических свойств наносимого вещества. Положительным свойством метода является возможность измерять толщину в процессе напыления пленки. [9]
 |
Замкнутая доменная структура в лермаллоевых ст. айп-пленках. [10] |
При дальнейшем увеличении толщины пленки наблюдается тенденция к переходу к доменным структурам замкнутого типа. [11]
Как видно из рис. 7 - 1, толщина покрытия, соответствующая концентрации смолы 1 5 - 1 8 %, может быть получена при времени пребывания 5 - 6 мин. Дальнейшее увеличение толщины пленки резко замедляется из-за того, что покрытая первыми слоями смолы поверхность гранулы своей кислотностью уже не катализирует полимеризацию, скорость которой в последующих слоях смолы резко падает. [12]
 |
Роликовая высокочастотная сварочная установка. [13] |
Так, при толщине пленки 100 мкм можно еще достигнуть скорости сварки 6 м / мин, а при толщине пленки 200 мкм она снижается до 2 м / мин. При дальнейшем увеличении толщины пленки непрерывный метод сварки с помощью роликовой машины становится экономически невыгодным. Для обеспечения указанных скоростей сварки частота тока генератора должна быть 81 36 - 10s или 152 5 - 10 гц. [14]
Размеры кристалла, азимутально выравненного на поверхности скола, полученной в сверхвысоком вакууме, значительно больше и лучше, чем на поверхности скола, полученной в воздухе. При дальнейшем увеличении толщины пленки дифракционные картины для различных подложек становятся разными. [15]
Страницы: 1 2 3