Воздействие - тлеющий разряд - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Забивая гвоздь, ты никогда не ударишь молотком по пальцу, если будешь держать молоток обеими руками. Законы Мерфи (еще...)

Воздействие - тлеющий разряд

Cтраница 1


Воздействие тлеющего разряда является причиной создания на поверхности однородно распределенных активных участков, служащих впоследствии центрами конденсации металлических паров.  [1]

Подвергнутый воздействию тлеющего разряда кристалл приобретает сенд-вичеподобную структуру: поверхность пепельная или золотистая, внутренняя часть желтая, основание красное.  [2]

Подвергнутый воздействию тлеющего разряда кристалл приобретает сенд-вичеподоб ную структуру: поверхность пепельная или золотистая, внутренняя часть желтая, основание красное.  [3]

По стойкости к разложению под воздействием тлеющего разряда углеводороды можно расположить в следующий нисходящий ряд: ароматические, нафтеновые, парафиновые, олефиновые, циклоолефиновые.  [4]

Структура полимерных пленок, осажденных под воздействием тлеющего разряда, описана в ряде работ. Методом ИК-спектроскошш и элементного анализа изучен и [100] структуры полимерных пленок, полученных при полимеризации гоксаметилдисилоксана, октамотилтрисплоксапа, гексадека-метилгептасилоксапа на поверхности алюминия под воздействием тлеющего разряда, зажигавшегося током частотой 1000 гц при напряжении 500 - 700 в. Установлено, что структура полимера но зависит от размера молекул исходных силоксапов.  [5]

Этот очень неустойчивый оксид образуется при воздействии тлеющего разряда на смесь S02 с парами серы и в некоторых других случаях.  [6]

До самого последнего времени большинство исследователей в основном интересовались превращениями веществ под воздействием тлеющего разряда в газовой фазе и на реакции, - идущие на поверхности металлов, почти не обращали внимания. Правда, было замечено [1], что изменения химического состава электрода и окисление электродов влияли на напряжение горения тлеющего разряда я это может сказаться на условиях протекания химических процессов в разряде.  [7]

8 Зависимость толщины слоя силицидов вольфрама от температуры вольфрамового образца ( 1, кремния ( 2 и камеры ( 3 при общем давлении хлоридов кремния 10 мм рт. ст. и продолжительности обработки 1 ч. / - rs, 1373 к i.| Зависимость толщины слоя силицидов вольфрама от продолжительности обработки ( 1 и 2 и от общего давления хлоридов кремния ( 3 и 4 при постоянных Tw 1573 К. TSi 1473 К и Гкам 900 К. - - - - - - - изменение удельной мощности разряда в зависимости от давления хлоридов. [8]

Изучение кинетики превращения углеводородов ( метана, этана, этилена, ацетилена) под воздействием тлеющего разряда [35] показало, что при ионизации этих соединений происходят сложные процессы, в результате которых образуются другие углеводороды, нестабильные радикалы и твердые продукты.  [9]

В работе [92] приведены результаты исследования адгезии медных покрытий после химической обработки полиимидной пленки, воздействия тлеющего разряда и предварительного нагрева в вакууме.  [10]

Смесь гелия, воздуха и метана или пропана при низком давлении ( 10 мм рт. ст.) подвергалась воздействию тлеющего разряда.  [11]

Практически, при металлизации в вакууме, проще всего окончательно очищать поверхность стекла, подвергая его до помещения в вакуум действию искрового разряда от электрода при атмосферном давлении или воздействию тлеющего разряда в камере для металлизации в то время, когда происходит ее откачивание, но вакуум еще не достигнут.  [12]

13 Содержание примеси в вольфрамовых покрытиях, 10 - 3 % по массе. [13]

Также было экспериментально доказано, что при определенной мощности разряда можно избежать науглероживания и слоистого строения осадка вольфрама несмотря на то, что исходная среда представляла собой смесь паров гексахлорида вольфрама с метаном. Этот факт и обезуглероживание карбидов тугоплавких металлов А. А. Бабад-Захряпин и Г. Д. Кузнецов [12] считают аналогичными явлениями, возникающими под воздействием тлеющего разряда.  [14]

Структура полимерных пленок, осажденных под воздействием тлеющего разряда, описана в ряде работ. Методом ИК-спектроскошш и элементного анализа изучен и [100] структуры полимерных пленок, полученных при полимеризации гоксаметилдисилоксана, октамотилтрисплоксапа, гексадека-метилгептасилоксапа на поверхности алюминия под воздействием тлеющего разряда, зажигавшегося током частотой 1000 гц при напряжении 500 - 700 в. Установлено, что структура полимера но зависит от размера молекул исходных силоксапов.  [15]



Страницы:      1    2