Cтраница 2
Нижнюю часть кварцевой камеры реактора и нижнюю плиту ( опорную плиту) очищают металлическим скребком, и материал в форме частиц ( смесь GaAs, GaAsP, окисей мышьяка, окисей фосфора и уловленных гидридных газов) собирается в металлическом контейнере, расположенном ниже вертикального реактора. Для заключительной очистки применяется пылесос высокой мощности. Вредное воздействие химических веществ может также наблюдаться при очистке ловушки реактора. Очистку ловушки выполняют путем скобления графитовых деталей из верхней камеры, на которых есть корка из вышеперечисленных побочных продуктов плюс хлорид мышьяка. При скоблении образуется пыль, поэтому очистку выполняют в раковине с вытяжной вентиляцией, чтобы свести к минимуму вредное влияние химических веществ на операторов. Технологическую линию выпуска, содержащую все побочные продукты плюс влагу, которую образуют жидкие отходы, вскрывают, а ее содержимое спускают в металлический контейнер. Для очистки от частиц пыли, которые могли улетучиться во время переноса графитовых деталей, применяют НЕРА-пылесос. [16]
![]() |
Насадка для нанесения смывки.| Установка для нанесения смывки. [17] |
Разновидностью вакуумного метода является вакуумно-вих-ревой. Применяемая в этом случае вихревая установка ВУУЛКП снабжена двумя-тремя вихревыми головками, вакуум-насосом, сливным баком, циклоном для сепарации шлама. В моющей головке происходит вихревое движение всасывающего воздуха, благодаря которому смывка через капилляры головки поступает на обрабатываемую поверхность. Это позволяет сократить затраты на удаление лакокрасочных покрытий и уменьшить вредное воздействие химических веществ на работающих. [18]