Рельефное изображение

Cтраница 2

Метод получения металлических рельефных изображений называется гальванопластикой. Гальванопластика применяется Для копирования клише, медалей, статуй, барельефов. Чтобы скопировать предмет, изготовляют из воска или гипса его форму - так называемую матрицу - обратное негативное изображение предмета. Поверхность формы для придания ей электропроводности покрывают тончайшим слоем графита. После пропускания тока образуется плотный, легко снимающийся с формы слой металла, который представляет собой рельефное изображение копируемого предмета. Для гальванопластики обычно применяют медь, но иногда используют и другие металлы: железо, никель, серебро. [16]

Полученное при проявлении рельефное изображение может быть усилено тра: влением мест, с которых удален слой незадуб-ленного вещества. Недавно были вновь предприняты попытки1 использовать для изготовления печатных форм копировальные слои, полученные с применением низкомолекулярных диазосо-единений, например п-ди-азо - N, М - диадкиланилинов, обычно используемых только в диазотипии. При экспозиции печатающие элементы образуются на освещенных местах в результате превращения новолака в нерастворимое соединение, а с пробельных элементов копировальный слой удаляется обработкой разбавленной щелочью. [17]

Кювета для наблюдения ультразвуковых волн по Польману. [18]

Таким образом возникает рельефное изображение, которое с помощью метода Тендера ( стр. [19]

Полученное при проявлении рельефное изображение может быть усилено травлением мест, с которых удален слой незадуб-ленного вещества. Недавно были вновь предприняты попытки использовать для изготовления печатных форм копировальные слои, полученные с применением низкомолекулярных диазосо-единений, например л-диазо - N, N-диалкиланилияов, обычно используемых только в диазотипии. При экспозиции печатающие элементы образуются на освещенных местах в результате превращения новолака в нерастворимое соединение, а с пробельных элементов копировальный слой удаляется обра боткой разбавленной щелочью. [20]

По второму способу рельефное изображение получают фототравлением или наращиванием. [21]

Вырезанное из стали рельефное изображение литеры, служащее для изготовления матрицы, в к-рой отливаются свинцовые литеры для набора ( тип. [22]

Фотолитографический способ получения рельефного изображения состоит в том, что через шаблон любого рисунка экспонируется нанесенная на подложку полимерная светочувствительная пленка. Действие света изменяет ее первоначальные физико-химические свойства, прежде всего растворимость, вследствие чего при последующей обработке удаляются либо засвеченные, либо неэкспонированные участки полимерного слоя. Полученный рельеф затем, чаще всего химически или электрохимически, углубляется за счет вытравливания участков подложки, не защищенных полимерной пленкой, что позволяет рисунок шаблона перенести на подложку. Эта операция может быть повторена многократно на одной и той же подложке, в зависимости от технических требований полупроводниковой схемы. [23]

При необходимости получения двухстороннего заданного рельефного изображения процесс в основном подобен процессу по первому варианту. [24]

Внешний вид улыразвуковш о дефектоскопа с 10 парами щупов для испытания стальных листов. [25]

Невидимое для невооруженного глаза рельефное изображение поверхностных слоев жидкости превращается с помощью оптического устройства в световое, видимое и проектируется на экран. [26]

Записанное на термопластической пленке рельефное изображение может быть воспроизведено на экране при помощи оптической системы, показанной на рис. 10.27. Источниками света служат светящиеся щели. Конденсор Л изображает светящиеся щели на решетку из параллельных светонепроницаемых полос. Если между источниками света и светонепроницаемыми полосами поместить однородную пленку, то система свет не пропускает, так как прямолинейность распространения света не нарушается. Наличие механических деформаций пленки в виде канавок изменяющейся глубины приводит к отклонениям от прямолинейного распространения света вследствие дифракционных явлений, вызванных тем, что фронт плоской световой волны осле прохождения через термопластик нарушается. Происходит это потому, что скорость распространения света в термопластике отличается от скорости распространения света в воздухе. [27]

Полученное в результате фотолитографии рельефное изображение шаблона в слое резиста ( негативное или позитивное), нанесенного на слой диоксида или нитрида кремния, находящийся на кремнии, служит защитной маской при вытравливании этих диэлектриков до кремния; в эти окна при последующих операциях идет диффузия примесей в кремний. При этом получают требуемые характеристики отдельных транзисторов и схемы в целом. Большая интегральная схема содержит десятки тысяч транзисторных элементов, соединенных проводниками: алюминием или поликристаллическим кремнием с высоким содержанием примесей. [28]

За счет чего получают рельефное изображение внешнего вида предмета в аксонометрической проекции. [29]

Определяющее влияние на параметры рельефного изображения оказывает качество масок, изготовление которых является важнейшим звеном в технологической цепи литографического процесса. [30]

Страницы: 1 2 3 4