Обратная линейная дисперсия

Cтраница 1

Изменение обратной линейной дисперсии ( ОЛД в зависимости от длины волны. Плоская решетка 3600 штрих / мм с фокусным расстоянием 1 м и величиной а - / 3 14 74. [1]

Обратная линейная дисперсия улучшается при увеличении фокусного расстояния и числа штрихов решетки. [2]

Распределение интенсивности в дифракционном изображении спектральной линии за щелью монохроматора ( вид двух разрешаемых спектральным прибором линий.| Зависимость коэффициента преломления материала от длины волны в области его максимального поглощения. [3]

Обратная линейная дисперсия зависит как от материала призмы, так и от конца спектра: dK / dl для данной призмы различна для длин волн в ИК - и УФ-областях. Поэтому выбор оптического материала для работы в той или иной части спектра определяется не только его прозрачностью, но также его преломляющими свойствами. По мере приближения к области максимального поглощения материала, из которого сделана призма, показатель преломления возрастает ( рис. 72), а следовательно, уменьшается обратная линейная дисперсия призмы и увеличивается разрешающая способность прибора, но при этом падает его светосила. Поэтому приборы с кварцевой оптикой пригодны для работы не выше Ш) 0 нм, так как при больших длинах волн сильно возрастает обратная линейная дисперсия, хотя кварц прозрачен не только в ультрафиолетовой части спектра, но также в видимой и ИК-области до 3 5 мкм. [4]

Изменение обратной линейной дисперсии ( ОЛД в зависимости от длины волны. Плоская решетка 3600 штрих / мм с фокусным расстоянием 1 м и величиной а - / 3 14 74. [5]

Обратная линейная дисперсия в некоторой степени зависит от длины волны, поскольку величина / 3, а следовательно, и cos / З, является функцией А. [6]

Обратная линейная дисперсия зависит как от материала призмы, так и от конца спектра: dh / dl для данной призмы различна для длин волн в ИК - и УФ-областях. Поэтому выбор оптического материала для работы в той или иной части спектра определяется не только его прозрачностью, но также его преломляющими свойствами. По мере приближения к области максимального поглощения материала, из которого сделана призма, показатель преломления возрастает ( рис. 72), а следовательно, уменьшается обратная линейная дисперсия призмы и увеличивается разрешающая способность прибора, но при этом падает его светосила. Поэтому приборы с кварцевой оптикой пригодны для работы не выше Ш) 0 нм, так как при больших длинах волн сильно возрастает обратная линейная дисперсия, хотя кварц прозрачен не только в ультрафиолетовой части спектра, но также в видимой и ИК-области до 3 5 мкм. [8]

Оптическая схема камеры УФ-90. [9]

Обратная линейная дисперсия для различных длин волн, приведенных в центр пластинки, дана в табл. В. [10]

Обратная линейная дисперсия прибора составляет 0 64 - 1 28 нм / мм. Сферические зеркальные объективы с относительным отверстием 1: 15 имеют фокусные расстояния 901 5 и 307 2 мм. [11]

Изображения щели в двух близких длинах волн /. г и /.. [12]

Обратную линейную дисперсию выражают в А мм или нм мм. [13]

Обратной линейной дисперсией призмы определяется разрешающая сила R прибора, которая представляет собой отношение средней длины волны двух самых близких линий, разрешаемых данным прибором, к разности их длин волн. [14]

Обратной линейной дисперсией призмы определяется разрешающая сила К прибора, которая представляет собой отношение средней длины волны двух самых близких линий, разрешаемых данным прибором, к разности их длин волн. [15]

Страницы: 1 2 3 4 5