Установка - экспонирование
Cтраница 1
Установка экспонирования предназначена для проведения процессов экспонирования одно - и двусторонних печатных плат с нанесенным на них фоторезистом. Прижим плат с фотошаблоном осуществляется в вакуумных рамах насосом-компрессором, создающим вакуум. Освещенность, создаваемая ртутными лампами, 80 000 лк. [1]
Хотя возможности установок экспонирования и улучшаются, однако на практике существуют еще ограничения, связанные, например, с плоскостностью лицевой поверхности подложки, отражением света от поверхностей слоев резистов, что при перенесении рисунка с фотошаблона на слой резиста обычно вызывает искажения. В этом разделе речь идет о необходимости расширения возможностей установок экспонирования путем использования новых методов нанесения слоев резистов. [2]
Еще одним важным параметром установок экспонирования является точность совмещения AR. Если точность совмещения-низка, то даже при высоком разрешении ввиду невозможности создания оптимальной топологии схемы не удается добиться высокой плотности интеграции. Желательно, чтобы точность-совмещения была меньше 1 / 5 минимальной ширины элемента ИС. Для повышения точности совмещения при проекционном экспонировании с уменьшением размеров на кристаллах предусматриваются знаки совмещения. [3]
Вообще говоря, в установках экспонирования для определения, с какой степенью достоверности изображение рисунка шаблона переносится на резист, используют следующий метод. Пропуская свет через шаблон с рисунком гармонической дифракционной решетки ( с пространственной частотой v), измеряют максимальную и минимальную интенсивность света на выходе и, вычислив их отношение, определяют степень модуляции. Используя частотно-контрастные характеристики как ориентир, можно изменять когерентность света, определяемую отношением апертур системы освещения и проекционной системы, и устанавливать такую степень когерентности, которая соответствует наибольшему разрешению. [4]
На рис. 4.56 представлены виды установок экспонирования. В левой части схемы показаны системы экспонирования, которые нашли практическое применение, а в правой части - еще проходящие стадию исследований и разработок. При непосредственном формировании рисунка электронным или ионным пучком изображение как бы записывается путем сканирования пучка. В других случаях, когда используются шаблоны, экспонирование и перенос изображения рисунка идут одновременно. Непосредственное формирование рисунка электронным пучком позволяет обойтись без шаблона и обеспечивает высокую точность, однако производительность, достигаемая при этом, невысока. Перенос изображения требует применения шаблонов, зато при этом обеспечивается высокая производительность процесса. Правда, на самих шаблонах рисунок может наноситься с помощью электронного пучка. [5]
Хотя возможности установок экспонирования и улучшаются, однако на практике существуют еще ограничения, связанные, например, с плоскостностью лицевой поверхности подложки, отражением света от поверхностей слоев резистов, что при перенесении рисунка с фотошаблона на слой резиста обычно вызывает искажения. В этом разделе речь идет о необходимости расширения возможностей установок экспонирования путем использования новых методов нанесения слоев резистов. [6]
 |
Схема установки для электронолитографии по методу управляемого пучка. [7] |
Обеспечить перемещение столика - задача достаточно сложная для точности перемещения L / 5 на поле диаметром 50 мм. На все ранее указанные требования накладывается еще одно - стабильная работа всех частей установки электроннолучевого экспонирования в течение многих часов. Оценим время экспонирования одного участка. [8]
 |
Процесс литографии с повышенным контрастом. [9] |
Как показано на рис. 4.62, в этом методе используется верхний слой резиста, содержащий краситель ( нитрозосоединение), выцветающий в результате облучения, что позволяет повышать контраст при экспонировании нижнего обычного слоя резиста. В настоящее время внимание обращено к проблеме улучшения разрешающей способности этого метода в случае низкого разрешения установки экспонирования. Естественным недостатком метода литографии с повышенным контрастом является увеличение продолжительности экспонирования. [10]
Общее затруднение при экспонировании электронным лучом состоит в достижении точности совмещения при последовательно проводящихся операциях. Бреннеман и др. [ 1471 использовали метод, требующий центрирования подложки на координатном столе под микроскопом, чтобы обеспечить движение по прямоугольнику. Совмещение на установке экспонирования осуществлялось нанесением на поверхность подложек визуально наблюдаемых регистрационных отметок. Исходная точка при экспонировании могла быть таким образом выверена с точностью 2 5 мкм. Этот метод недостаточно эффективен из-за механического перемещения координатного стола. [11]
Процесс формирования рисунка называется литографией. Установка для переноса рисунка шаблона на подложку называется установкой экспонирования. Разумеется, для установки, предназначенной для массового производства, большое значение имеет стоимость. Литография является наиболее важным процессом в технологии изготовления ИС, поскольку разрешающая способность и точность совмещения в процессе литографии определяют плотность размещения элементов в ИС. [12]
 |
Установка для экспонирования печатных плат с передвижным источником света. [13] |
Нижний и верхний источники света с регулируемой скоростью перемещаются над и под вакуумными рамами, обеспечивая при помощи специальных рефлекторов равномерное облучение поверхности платы. Можно осуществлять как одно -, так и двустороннее экспонирование последовательно на двух рамах. В установке предусмотрено водяное охлаждение ламп и блокирующее устройство для останова и отключения источника света при внезапном раскрытии створок рамы. При изменении скорости движения каретки от 100 до 1400 мм / мин время экспонирования соответственно составляет 5 0 - 0 05 мин. Помещение, в котором размещают установку экспонирования, должно быть оборудовано кондиционером. [14]
Страницы: 1