Адсорбция - примесь
Cтраница 1
Адсорбция примесей вызывает нарушения в построении кристаллической решетки, которая содержит точечные ( вакансии и примеси), линейные ( краевые и винтовые дислокации) и плоскостные дефекты. Высокая концентрация вакансий обуславливает резкое повышение скорости диффузионных процессов, количество дефектов в кристаллической решетке увеличивается. Дефекты кристаллической решетки оказывают существенное влияние на физические свойства образующихся осадков. В некоторых случаях на электроде возникает жидкоподобная структура - металлические стекла. Не имея границ зерен, они являются однородными метастабильными системами и часто обладают более высокой коррозионной стойкостью по сравнению с кристаллическими осадками такого же химического состава. [1]
 |
Схема внутрикамерно. [2] |
Адсорбция примесей пленкой происходит в основном вследствие ударений с ней нейтральных атомов фоновых газов, а не ионов, поэтому отрицательное смещение на подложке не может прямо влиять на отталкивание примеси. [3]
Адсорбция примесей вызывает нарушения в построении кристаллической решетки, которая содержит точечные ( вакансии и примеси), линейные ( краевые и винтовые дислокации) и плоскостные дефекты. Высокая концентрация вакансий обуславливает резкое повышение скорости диффузионных процессов, количество дефектов в кристаллической решетке увеличивается. Дефекты кристаллической решетки оказывают существенное влияние на физические свойства образующихся осадков. В некоторых случаях на электроде возникает жидкоподобная структура - металлические стекла. Не имея границ зерен, они являются однородными метастабильными системами и часто обладают более высокой коррозионной стойкостью по сравнению с кристаллическими осадками такого же химического состава. [4]
Адсорбция примесей на осадках является равновесным процессом -, так как количество адсорбированной примеси зависит от ее концентрации в растворе. Поэтому, если осадок промывать чистым растворителем, известное количество адсорбированных примесей может перейти обратно в промывную жидкость, где их концентрация практически равна нулю. [5]
Адсорбция примесей вызывает нарушения в построении кристаллической решетки, которая содержит точечные ( вакансии и примеси), линейные ( краевые и винтовые дислокации) и плоскостные дефекты. Высокая концентрация вакансий обуславливает резкое повышение скорости диффузионных процессов, количество дефектов в кристаллической решетке увеличивается. Дефекты кристаллической решетки оказывают существенное влияние на физические свойства образующихся осадков. В некоторых случаях на электроде возникает жидкоподобная структура - металлические стекла. Не имея границ зерен, они являются однородными метастабильными системами и часто обладают более высокой коррозионной стойкостью по сравнению с кристаллическими осадками такого же химического состава. [6]
 |
Скорость роста кристаллов CuS04 5Н20 по направлению из раствора в смеси вода - глицерин. [7] |
Адсорбция локализованной примеси может приводить к колебаниям скорости роста, что, видимо, особенно характерно для эпи-таксиальной примеси. При этом нарастание слоя основного вещества перемежается образованием ориентированного слоя из мельчайших кристалликов желтой кровяной соли. [8]
 |
Полярографические максимумы 3-го рода. полярограммы в растворах. [9] |
Адсорбция примесей посторонних ПАОВ также устраняет и полярографические максимумы 3-го рода. [10]
Для адсорбции примеси большое значение имеет ее структурное соответствие кристаллизуемому веществу [77-85], так как пространственное размещение ионов в молекуле примеси, ее заряд, дипольный момент и потенциальное поле ориентируются относительно грани кристалла. Очень большое влияние кислых анионов на кристаллизацию соответствующих кислых солей указывает на то, что здесь имеет место не только размерная аналогия, но и сходство силовых полей. [11]
При адсорбции примесей из потока газа ( или жидкости) неподвижными твердыми сорбентами шихта постепенно насыщается и слой за слоем выходит из строя. Спустя некоторое время отрабатывает полностью вся сорбционная колонна, и для возможности ее дальнейшего использования необходимо остановить подачу вещества и произвести регенерацию всей шихты. [12]
Если адсорбция примесей не-локализована, такие примеси, адсорбированные на гладких участках грани, не могут быть частоколом перед ступенями. Однако в изломах на ступенях они могут адсорбироваться достаточно прочно. При этом число свободных, доступных для основного вещества изломов снижается и скорость движения ступени по грани уменьшается. Соответственно происходит и уменьшение скорости роста грани. Однако в отличие от случая неподвижной адсорбции отравление изломов не приводит к полному торможению1 грани, так как всегда возможен обмен между частицами примеси, адсорбировавшимися в изломах, и частицами основного вещества. Кроме того, все время флуктуативно возникают новые изломы. На рис. 1 - 27 дан график изменения скорости роста кристаллов CuS04 - 5H20 при разных концентрациях глицерина, видимо отравляющего изломы. Как и примеси, локализованные на поверхности, примеси, отравляющие изломы, могут адсорбироваться специфически, меняя габитус кристаллов. [13]
 |
Нитеобразный кристалл серебра, полученный катодным осаждением из раствора азотнокислого серебра в присутствии поверхностно-активного вещества. [14] |
Влияние адсорбции примесей сказывается и при нормальном росте без перерыва тока. Такая форма роста зависит от различия адсорбируемости поверхностно-активных веществ на разных гранях кристалла. Те грани кристалла, на которых вещество сильно адсорбируется, не растут, а грань с относительно чистой поверхностью растет беспрепятственно. [15]
Страницы: 1 2 3 4 5