Возможность - осаждение
Cтраница 1
Возможность осаждения обычным центрифугированием ( при числе оборотов 3000 - 6000 в 1 мин. [1]
Возможность осаждения этих анионов сероводородом основывается на следующем. [2]
Возможность осаждения частиц на стенках канала, а также их слипание друг с другом обусловливает облитерацию, которая определяется процессами гетероадагуляции и коагуляции. [3]
Возможность осаждения примесей в застойных зонах необходимо иметь в виду при эксплуатации стендов. Например, сливные баки практически постоянно работают в режиме отстаивания. Осадок примесей может вызвать закупорку входного отверстия заборной трубы. Чтобы избежать накапливания примесей, нужно периодически промывать сливные баки. Промывка осуществляется путем быстрого слива металла из контура ( с целью размыть имеющийся осадок) и обратного заполнения с последующей прокачкой теплоносителя через холодную ловушку. [4]
Возможность осаждения молибдена ( У1) аммиаком зависит от условий. По данным этих авторов, молибден соосаждается сильно, если к раствору анализируемого образца добавляют аммиак в небольшом избытке; молибден соосаждается очень мало, если анализируемый раствор вливать в аммиак при избытке последнего. Молибден был выделен из морской воды при осаждении аммиаком после добавления примерно 0 1 г соли Мора на 1 л анализируемого раствора. [5]
 |
Зависимость молекулярного веса фракций тюлиизобутилена от состава элюи. [6] |
Возможность осаждения полимера в сифоне резко уменьшается термостатированием последнего при температуре более высокой, чем температура выходной части колонки. [7]
Возможность осаждения золота этим путем из очень разбавленных растворов не была исследована. [8]
Доказана возможность осаждения свинцовых покрытий из щелочных ( плюмбитных) и перхлоратных электролитов. Выделение на катоде свинца во всех электролитах происходит за счет восстановления ионов двухвалентного свинца до металла. [9]
Показана возможность осаждения пленок окиси алюминия как в области высокочастотного кольцевого разряда, так и в ионных пучках, вытянутых из области разряда триизопропилата алюминия. [10]
Показана возможность осаждения зеркальных пленок сульфида кадмия с помощью аллилтиомочевины. [11]
Поэтому представляется возможность осаждения покрытия толщиной до 1200 мкм при плотности тока 0 5 А / дм2 без перемешивания. Перемешивание позволяет применять плотность тока 2 - 3 А / дм3 и получать осадки толщиной до 400 - 500 мкм. [12]
Следует учитывать возможность осаждения металла или из растворенных продуктов коррозии, или в случае применения электрохимической обработки - из анодного материала. [13]
Поэтому представляется возможность осаждения покрытия толщиной до 1200 мкм при плотности тока 0 5 А / дм3 без перемешивания Перемешивание позволяет применять плотность тока 2 - 3 А / дм2 и получа ь осадки толщиной до 400 - 500 мкм. [14]
Поэтому представляется возможность осаждения покрытия толщиной до 1200 мкм при плотности тока 0 5 А / дм без перемешивания Перемешивание позволяет применять плотность тока 2 - 3 А / дм2 и пслучэ ь осадки толщиной до 400 - 500 мкм. [15]
Страницы: 1 2 3 4