Различная участка - поверхность
Cтраница 3
Различная интенсивность адсорбционных процессов на различных участках поверхности данного адсорбента объясняется неоднородностью поверхности. Поэтому имеет значение не только адсорбция молекул исходных веществ, но и десорбция образующихся молекул продуктов реакции. [31]
Различная интенсивность адсорбционных процессов на различных участках поверхности данного адсорбента объясняется неоднородностью поверхности. [32]
Различная интенсивность адсорбционных процессов на различных участках поверхности данного адсорбента объясняется неоднородностью поверхности. Поэтому имеет значение не только адсорбция молекул исходных веществ, но и десорбция образующихся молекул продуктов реакции. [33]
 |
Дислокационная структура поверхностного слоя и механизм текстурирования. а-дислокационная структура стали 1Х18Н9Т, X 20 000. 6 - то же, Mb, X 600. в - схема текстурирования. [34] |
Физический рельеф определяет флуктуации напряжений на различных участках поверхности, неизбежные при любом ее состоянии. [35]
Количество адсорбированных частиц примеси варьирует на различных участках поверхности акцессорий. Следствием этого является сложное макромозаичное распределение неструктурной примеси, которое наиболее отчетливо прослеживается в наружных зонах кристалла. Весьма малые ( в пределах градуса) искривления поверхности базиса вызывают резкие изменения градиента концентрации примеси вдоль зон, параллельных растущей поверхности. На разрезах, параллельных плоскости х, видно, что наиболее активно примесь адсорбируется склонами акцессорий, обращенными в стороны грани отрицательного ромбоэдра. Вдоль границ секторов с и л, а также с и s часто наблюдаются примесные шлейфы, возникающие в результате адсорбирования неструктурной примеси поверхностями положительной и отрицательной бипирамиды. Такие поверхности интенсивно развиты вдоль ребер с / - х и c / s на кристаллах, удлиненных вдоль оси у. Если интенсивность молочно-белой окраски на затравке выше, чем в прилегающих слоях кристалла, то это свидетельствует о более высокой концентрации неструктурной примеси в кристалл, из которого вырезаны затравочные пластины. [36]
Количество адсорбированных частиц примеси варьирует на различных участках поверхности акцессорий. Следствием этого является сложное макромозаичное распределение неструктурной примеси, которое наиболее отчетливо прослеживается в наружных зонах кристалла. Весьма малые ( в пределах градуса) искривления поверхности базиса вызывают резкие изменения градиента концентрации примеси вдоль зон, параллельных растущей поверхности. На разрезах, параллельных плоскости х, видно, что наиболее активно примесь адсорбируется склонами акцессорий, обращенными в стороны грани отрицательного ромбоэдра. Вдоль границ секторов с и х, а также с и s часто наблюдаются примесные шлейфы, возникающие в результате адсорбирования неструктурной примеси поверхностями положительной и отрицательной бипирамиды. Такие поверхности интенсивно развиты вдоль ребер с / - х и c / s на кристаллах, удлиненных вдоль оси у. Если интенсивность молочно-белой окраски на затравке выше, чем в прилегающих слоях кристалла, то это свидетельствует о более высокой концентрации неструктурной примеси в кристалл, из которого вырезаны затравочные пластины. [37]
Обычно анодные и катодные процессы развиваются на различных участках поверхности металла. Нередко удается определить площадь таких участков и их местонахождение. [38]
 |
Состав природных газов. [39] |
В связи с тем что сажа на различных участках оса-дительной поверхности имеет различную удельную поверхность, при ее определении необходимо использовать для измерения или всю осевшую сажу, или часть ее вырезать в виде сектора. Это обеспечивает автоматически получение средневзвешенного значения удельной поверхности. [40]
Очевидно, для различных реакций каталитически активными являются различные участки поверхности катализатора. Действие промоторов, изменение температуры и других внешних условий влияет-на число и характер активных каталитических центров и изменяет тем самым каталитическую активность катализатора. [41]
Очевидно, для различных реакций каталитически активными являются различные участки поверхности катализатора. Действие промоторов, изменение температуры и других внешних условий влияет - на число и характер активных каталитических центров и изменяет тем самым каталитическую активность катализатора. [42]
 |
Силы, действующие на корабль в прямом положении. [43] |
Аналогично вместо сил давлений воды, действующих на различные участки подводной поверхности корабля, можно при изучении условий его равновесия рассматривать одну результирующую силу поддержания, равную весу воды в объеме подводной части судна. Сила эта А приложена в точке С, являющейся центром тяжести указанного объема и именуемой центром величины. [44]
Страницы: 1 2 3 4