Учет - объемный заряд - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Мода - это форма уродства столь невыносимого, что нам приходится менять ее каждые шесть месяцев. Законы Мерфи (еще...)

Учет - объемный заряд

Cтраница 1


Учет объемного заряда был бы необходим, если бы мы имели в виду получить сколько-нибудь правильное представление и о хвосте волны.  [1]

Другим методом учета объемного заряда, как уже упоминалось, является размещение в электролите дополнительных источников тока.  [2]

ОС возникает благодаря учету объемного заряда в базовой области, который приводит к дополнительному падению напряжения в объеме базы диода. Это дополнительное падение напряжения увеличивает общее напряжение на диоде. С ростом тока дополнительное падение напряжения убывает, что и приводит к появлению ОС.  [3]

4 Зависимости 50 % - ных раз - Мд рядных напряжений от диаметра заземленного основания dn при различных изоляционных расстояниях Яи и высоте 2 0 подножника ft 4 м. [4]

Коэффициенты вычисляются с учетом объемного заряда, окружающего соответствующий электрод.  [5]

Таким образом, с учетом объемных зарядов внутренние дефекты при малых намагничивающих полях должны выявляться хуже, а при больших - лучше, чем это следует из линейной теории, учитывающей только поверхностные заряды. Следует отметить, что здесь не учитывается краевой эффект, сущность которого состоит в том, что вблизи выступов или впадин изделия материал имеет резко неоднородную намагниченность.  [6]

Распространение интенсивных пучков заряженных частиц рассмотрено в [7, 75] с учетом объемного заряда.  [7]

Это не совсем точно: периодическое поле возникает лишь при учете объемного заряда, соответствующего средней ( в квантовомеханическом смысле и по объему) плотности свободных электронов.  [8]

Полученные результаты можно будет распространить и на электроны в потоке, если только действие объемного заряда будет пренебрежимо мало. Даже в статическом режиме учет объемного заряда очень сильно осложняет вопрос о движении электронов в магнетроне.  [9]

Основными дополнительными силами, связанными с учетом объемного заряда, являются силы кулоновского взаимодействия, расталкивающие электроны.  [10]

В эквивалентных диодах, следующих за первым, скорость электронов возрастает, а плотность зарядов падает и мало влияет на распределение потенциала. Отсюда следует, что обычно можно рассчитывать время пролета с учетом объемного заряда только в первом эквивалентном диоде и пренебрегать его влиянием во всех последующих. Когда при повышенной плотности электронного потока в каком-либо из эквивалентных диодов, следующих за первым, имеет место значительное увеличение плотности объемного заряда, существенно меняющее распределение потенциала, необходимо производить расчет времени пролета с учетом влияния этого заряда.  [11]

12 Кривые изменения напряженности электрического поля по длине промежутка. [12]

В промежутках с резконеоднородвыми полями полярность сильно влияет не только на начальные, но и на пробивные напряжения. На рис. 2 - 10 приведены кривые изменения напряженности в промежутке с резконеоднородным полем, построенные с учетом объемного заряда одиночной лавины.  [13]

Ьд, Сд, УД), зависящих от напряжений и токов. Если и можно принимать, что динамический коэффициент индуктивности сохраняет то же постоянное значение, что и L, то для Сд учет коронных объемных зарядов, определяющих сущность процесса, необходим.  [14]

Поправочная функция зависит от вида зависимости р ( у) в структуре. Вычисление поправочной функции представляет собой довольно сложную математическую задачу и основывается на определенной модели структуры. На слое толщиной w с удельной проводимостью а, расположен омический контакт радиусом га. Второй слой - подложка - имеет удельную проводимость сг2, тот же тип электропроводности и достаточную толщину, чтобы его можно было считать слоем полубесконечного объема. Распределение электрического потенциала в верхнем слое U и в подложке ( У2 удовлетворяет уравнению Лапласа. Граничные условия следующие: на металлическом контакте потенциал постоянен; на верхней поверхности структуры нормальная составляющая тока равна нулю; в плоскости контакта слоя и подложки нормальная составляющая тока и потенциал изменяются непрерывно. Эти условия соответствуют предположению об однородности свойств слоя и подложки и отсутствии объемных зарядов на их границе. Второе предположение не является физически оправданным, однако учет объемного заряда ведет к такому усложнению задачи, что им обычно пренебрегают. Решение уравнения Лапласа для распределения потенциалов U и ( / а позволяет вычислить сопротивление растекания контакта.  [15]



Страницы:      1