Cтраница 4
![]() |
Схема плазменной горелки. [46] |
Плазменная дуга, возникающая между катодом и анодом - соплом - при подаче электрического напряжения, вытесняется рабочим газом в отверстие сопла. При этом плазменный факел состоит как бы из трех частей ( рис. III. В первом и втором участках факела формируется плазма, третий участок факела используют для расплавления материала покрытия и транспортировки его к покрываемому изделию. [47]
В идеальном плазменном реакторе должны быть созданы условия для стабильной работы разряда и закалки с большой скоростью истекающих из реактора газов. Когда же плазменный факел целиком закрыт, а именно такие конструкции плазматронов используются для химических синтезов, возникает целый ряд технических трудностей. [48]
Изображение струи, выходящей из анода дуговой камеры, при помощи двух конденсоров фокусировалось на щель стеклянного спектрографа ИСП-51, перпендикулярно к ней. Щелью вырезался участок изображения плазменного факела, соответствующий участку струи, находящемуся на расстоянии 1 5 мм от выходного отверстия в аноде. [49]
![]() |
Конструкция плазмотрона с тангенциальной подачей плазмообразующего газа.| Схема плазменной печи для плавки слитков в кристаллизатор. [50] |
Для технологических применений плазменной струи существенную роль играет знание процессов передачи тепла от струи ионизированного газа нагреваемому телу. Тем не менее высокая энтальпия плазменного факела делает высокоэффективным его использование для проведения технологических процессов со скоростями, недостижимыми в других условиях, или в принципиально новых процессах в газовой химии, металлургии и других областях техники. [51]
Осуществляя и интерпретируя зондовые измерения, надо иметь в виду предельную чувствительность метода и числу регистрируемых зарядов. Отметим, что в масштабе плазменного факела это очень маленькая величина, на 10 порядков меньше той плотности плазмы, которая регистрируется как граница непрозрачной области. [52]
Наличие углеродной компоненты пучка способствует интенсификации этого процесса, образуется своеобразный экран. К моменту времени 30 не структура плазменного факела характеризуется наличием двух областей с повышенной тормозной способностью. На рис. 3.26 приведены профили энерговыделения пучков на оси симметрии ( г 0) в различные моменты времени. Первая область, расположенная у облучаемой поверхности, образована потерями энергии протонной компоненты, а вторая - на расстоянии 130 мкм от поверхности - углеродной компоненты смешанного пучка. В случае моносоставного пучка образуется один экран, граничащий с областью низкой степени ионизации. При временах t - 20 Ч-30 не формирование второго экранирующего слоя заканчивается и поглощение энергии смешанного пучка происходит селективно до окончания импульса ионного тока. Следствием этого является дополнительная экранировка поверхности облучаемой преграды и уменьшение эффективности передачи энергии пучка конденсированной фазе мишени. [53]
![]() |
Форма и изотермы высокочастотного индукционного плазменного факела. [54] |
Внешние, более холодные участки плазмы в зависимости от рода газа имеют температуру 6000 - 7000 К. Таким образом, в разных участках плазменного факела безэлектродного индукционного вч-разряда могут возбуждаться линии различных элементов. Этому способствует также оптимизация скорости потока газа, подающего анализируемый аэрозоль в разряд. [55]
Так, в работе [27] предложено проводить деструкцию прозрачных полимеров ( например, полиэтилена, полистирола) под воздействием лазерного излучения, помещая анализируемые образцы в виде тонкой пленки на плоскую поверхность стержня из синего кобальтового стекла. Группа легких продуктов образуется преимущественно в плазменном факеле - быстро замораживаемой плазме, индуцируемой лазерным излучением. Эта группа продуктов представляет собой низкомолекулярные газы, анализ которых позволяет охарактеризовать состав образца. Такого типа анализ известен как плазмо-стехиометри-ческий анализ. [56]