Возрастание - ток
Cтраница 2
Возрастание тока при извлечении электрода из раствора объясняется образованием пленки электролита на поверхности металла. Газ растворяется в пленке и диффундирует к поверхности электрода. Так как толщина пленки мала, то, следовательно, мала и толщина диффузионного слоя, а потому поток диффузии реагирующего вещества к поверхности электрода оказывается большим. С другой стороны, для отдаленных участков пленки все возрастающее значение приобретают омические потери тока в растворе, так как из-за малой толщины омическое сопротивление пленки велико. В результате потенциал соответствующих участков электрода приближается к равновесному и плотность тока падает. Поэтому при увеличении / ток на J ] / 2 непогруженную часть электрода выходит на предел, хотя протяженность тонкой пленки, смачивающей электрод, растет. [16]
 |
Полупогруженный элек - ной границе электрод-раствор - газ. [17] |
Возрастание тока при извлечении электрода из раствора объясняется образованием пленки электролита на поверхности металла. Газ растворяется в пленке и диффундирует к поверхности электрода. Так как толщина пленки мала, то, следовательно, мала и толщина диффузионного слоя, а потому поток диффузии реагирующего вещества к поверхности электрода оказывается большим. [18]
Возрастание тока при Ет 1 45 В отвечает процессу выделения молекулярного кислорода. При изменении потенциала в катодном направлении наблюдаются четкий максимум восстановления адсорбированного кислорода, слабо выраженная двойнослойная область и максимумы посадки адсорбированного водорода. Максимумы ионизации - посадки водорода - при менее анодном потенциале, называют максимумами слабо связанного водорода, а более анодные максимумы - максимумами прочно связанного водорода. [19]
Возрастание тока iK1 происходит до тех пор, пока ток б1 или ток iK1 не достигнет предельного значения. [20]
Возрастание тока iK1 происходит до тех пор, пока ток б1 или ток / К1 не достигнет предельного значения. [21]
Возрастание тока / а и уменьшение тока / С2 в этой части характеристик реального тетрода может происходить также за счет вторичной эмиссии с поверхности экранирующей сетки; вторичные электроны двигаются от этой сетки к аноду, имеющему больший положительный потенциал. [22]
 |
Конструкция канала расходомера. [23] |
Возрастание тока этого коллектора свидетельствует о проникновении в вакуум электроотрицательного пробного вещества. [24]
Возрастание тока / а и уменьшение тока / С2 в этой части характеристик реального тетрода может происходить также за счет вторичной эмиссии с поверхности экранирующей сетки; вторичные электроны двигаются от этой сетки к аноду, имеющему больший положительный потенциал. [25]
Возрастание тока сопровождается уменьшением сопротивления триода. [26]
Возрастание тока при напряжении U l / б является результатом ионизации газовых молекул ударами электронов. U превышает ионизационный потенциал газа. Кроме ионизации, происходит возбуждение части молекул газа, что приводит к его свечению. Поэтому состояние газового промежутка, соответствующее участку гж, получило название тлеющего разряда. Различают нормальный ( участок гд) и аномальный ( участок дж) тлеющие разряды. [27]
Возрастание тока, измеряемого амперметром 3 ( рис. 10.1), снижение напряжения, фиксируемое вольтметром 2, обычно указывают на наличие дефекта в изоляции испытываемого трансформатора. Повреждение в испытываемом трансформаторе проявляется потрескиванием и разрядами внутри него. [28]
 |
Полупогруженный элек - ной границе электрод-раствор - газ. [29] |
Возрастание тока при извлечении электрода из раствора объясняется образованием пленки электролита на поверхности металла. Газ растворяется в пленке и диффундирует к поверхности электрода. Так как толщина пленки мала, то, следовательно, мала и толщина диффузионного слоя, а потому поток диффузии реагирующего вещества к поверхности электрода оказывается большим. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5