Продолжительная адсорбция

Cтраница 1

Продолжительная адсорбция ведет к частично необратимому переходу цезия в твердую фазу. [1]

Изменение давления азота после охлаждения вольфрамовой ленты. [2]

Другие экспериментальные результаты могут быть выражены кривыми зависимости Ар от времени выдерживания ленты при низкой температуре. Как и ранее, были найдены семейства кривых для различных скоростей натекания и различных низких температур. Поскольку главным назначением этих кривых является проверка выводов, сделанных на основании кривых р - t, и оценка величины поправочных членов, отметим одно из имеющихся у них преимуществ. При продолжительной адсорбции кривые р - t и их анализ оказываются ненадежными, так как р становится почти равным ро, и поэтому расчет s и 9 подвержен большим ошибкам. Метод, при котором производится измерение Ар после быстрого прокаливания ленты, дает более точные значения этих величин. [3]

Механизм химической откачки заключается в том, что молекулы остаточных газов, падая на атомночистую поверхность металла, необратимо связываются ( поглощаются) ею. Требуемые для этого энергии взаимодействия по величине превышают тепловые. Такое взаимодействие эффективно только между активными электроположительными металлами и газами, которые или хемисорбируются или образуют химическое соединение. Поскольку инертным газам свойственна только физическая сорбция с энергиями менее 10 ккал моль 1, при температурах вблизи комнатной и выше они связываться не могут. Обширные сведения об этих взаимодействиях были накоплены в процессе производства электронных ламп, в котором быстрое испарение химическя активных металлов используется для получения высокого вакуума перед пайкой. Хемисорбция, являющаяся начальным этапом процесса геттерирования, может сопровождаться диффузией газа внутрь металла и образованием стехиометрических соединений. Широко известные геттерирующие материалы такие, например, как Ва, Ti, МО, Та способны образовывать окислы, карбиды, гидриды и нитриды. Эти требования не удается совместить с необходимыми для геттерной откачки быстротой действия и простотой обслуживания. Поэтому более предпочтительным является осаждение на внутренние стенки вакуумной камеры тонкой пленки этих металлов, благодаря чему достигается большая величина соотношения поверхности к объему. Температура рабочей поверхности поддерживается комнатной или понижается для увеличения вероятности связывания падающих на нее атомов газа. При этих условиях процессы диффузии газа внутрь пленки, растворимости газа в твердых телах и образования соединений становятся несущественными, и сорбционная емкость металлов для большинства газов ограничивается накоплением монослоя. При продолжительной адсорбции, приводящей к насыщению поверхности металла, генерирующее ее действие прекращается. Поэтому необходимо восстанавливать атомночистую поверхность металла путем непрерывного или периодического осаждения его со скоростью, зависящей от количества сорбируемого газа. [4]

Страницы: 1